[发明专利]掩模组件

权利要求书

1.一种掩模组件，包括：

掩模，包括形成有开口的图案区域，所述掩模在第一方向上延伸；和

阻挡杆，设置在所述掩模下面，与所述掩模的第一侧部重叠，并且在所述第一方向上延伸，

其中所述掩模进一步包括：

伪开口区域，在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部上，所述伪开口区域在其中形成有开口；以及

开口区域，在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，所述开口区域分别对应于所述伪开口区域，所述开口区域在其中形成有开口，并且

所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的所述开口的数量小于所述图案区域中的每单位面积的所述开口的数量。

2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述伪开口区域的每一个中形成的所述开口的数量等于所述开口区域的每一个中形成的所述开口的数量。

3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述伪开口区域的每一个中形成的所述开口被布置成的形状与所述开口区域的每一个中形成的所述开口被布置成的形状彼此相同且对称。

4.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述图案区域位于所述第一侧部上的所述伪开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个伪开口区域之间。

5.根据权利要求4所述的掩模组件，其中沉积材料不穿过与所述第一侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口以及所述伪开口区域中形成的所述开口。

6.根据权利要求4所述的掩模组件，其中所述阻挡杆与形成在与所述第一侧部重叠的所述图案区域中的所述开口以及所述伪开口区域中形成的所述开口重叠。

7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述图案区域位于所述第二侧部上的所述开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个开口区域之间，

其中沉积材料穿过与所述第二侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口、所述开口区域中形成的所述开口、以及不与所述第一侧部和所述第二侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口。

8.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述图案区域围绕所述伪开口区域和所述开口区域的每一个的至少一部分。

9.根据权利要求1所述的掩模组件，进一步包括设置在所述掩模下面的支撑杆，每个支撑杆在正交于所述第一方向的第二方向上延伸，并且在所述第一方向上彼此间隔开。

10.根据权利要求9所述的掩模组件，其中所述支撑杆以第一间隔彼此间隔开，并且

所述支撑杆设置在所述阻挡杆下面。

11.根据权利要求9所述的掩模组件，其中沉积材料不穿过与所述支撑杆和所述阻挡杆重叠的所述图案区域中形成的所述开口，并且

其中所述支撑杆中的一个延伸以与所述第一侧部上的所述伪开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个伪开口区域之间的部分以及面对该两个伪开口区域的两个开口区域之间的部分重叠。

12.根据权利要求9所述的掩模组件，进一步包括掩模框架，所述掩模框架设置在所述掩模下面，紧固到所述阻挡杆的两侧部和所述支撑杆的每一个的两侧部，并且具有暴露所述掩模的所述图案区域的开口，

其中所述掩模进一步包括位于所述图案区域的上部和下部中的固定区域，

所述固定区域在所述第一方向上彼此面对，并且

所述固定区域的每一个的一部分与所述掩模框架重叠。