[发明专利]一种含酚酞基阻燃透明型聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种高玻璃粘附力的阻燃型高透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，是以脂环族二酐单体与含酚酞结构的芳香族二胺单体为原料，采用一步法高温溶液缩聚法制备得到，所述聚酰亚胺薄膜包括如下式I结构通式所示的化合物：

式I

所述式I结构通式中，R₁=-H或-CF₃；

所述式I结构通式中，n代表聚酰亚胺重复单元的摩尔数，n为1～200的整数。

2.权利要求1所述的高玻璃粘附力的阻燃型高透明聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将含酚酞基芳香族二胺单体溶于非质子强极性溶剂中，在搅拌下形成均相溶液，加入脂环族二酐单体反应，得到聚酰胺酸溶液；

2）向所述聚酰胺酸溶液中加入甲苯以及异喹啉，聚合反应得到可溶性聚酰亚胺溶液；

3）将所述可溶性聚酰亚胺溶液在无水乙醇中沉淀，得到可溶性聚酰亚胺树脂；

4）将所述可溶性聚酰亚胺树脂溶解于有机溶剂中，涂覆固化，即得。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤1）中脂环族二酐单体为氢化均苯四甲酸二酐（HPMDA）单体；

所述步骤1）中含酚酞基芳香族二胺单体选自3,3-双[4-（4-氨基苯氧基）苯基]苯酞（BAPPT）、3,3-双[4-（4-氨基苯氧基-2-三氟甲基）苯基]苯酞（TF-BAPPT）或上述两种按任意比例混合而成的单体；

和/或，所述步骤1）中的非质子强极性溶剂选自N-甲基吡咯烷酮（NMP）、间甲酚、N,N-二甲基甲酰胺（DMF）、N,N-二甲基乙酰胺（DMAc）、二甲基亚砜（DMSO）、γ-丁内酯中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤1）中脂环族二酐单体为氢化均苯四甲酸二酐（HPMDA）单体的异构体。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤1）中脂环族二酐单体选自1S,2R,4S,5R-环己烷四酸二酐（H-PMDA）、1S,2S,4R,5R-环己烷四酸二酐（H'-PMDA）、1R,2S,4S,5R-环己烷四酸二酐（H''-PMDA）或者上述化合物按任意比例混合而成的单体。

6.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤1）中非质子强极性溶剂的用量为反应体系中固体的质量百分含量的10%-35%；

和/或，所述步骤1）中，芳香族二胺单体与脂环族二酐单体的摩尔比为(1.20-0.95) :(0.95-1.20)。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤1）中非质子强极性溶剂的用量为反应体系中固体的质量百分含量的25%-30%；

和/或，所述步骤1）中，芳香族二胺单体与脂环族二酐单体的摩尔比为(1-1.05) : 1。

8.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤4）中，所述可溶性聚酰亚胺树脂的固体含量为1-40wt%，

和/或，所述有机溶剂选自N-甲基吡咯烷酮（NMP）、N,N-二甲基乙酰胺（DMAc）、二甲基亚砜（DMSO）、N,N-二甲基甲酰胺（DMF）中的一种或多种。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤4）中，所述可溶性聚酰亚胺树脂的固体含量为20-25wt%；

和/或，所述有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺（DMAc）。

10.权利要求1中所述的高玻璃粘附力的阻燃型透明聚酰亚胺薄膜在航空航天、微电子、光电子、可穿戴电子产品以及汽车领域中的应用。