[发明专利]变形装置、曝光装置和制造物品的方法

说明书

本发明提供了变形装置、曝光装置和制造物品的方法。变形装置使构件的表面变形，变形装置包括：多个致动器，每个致动器构造成向所述构件施加力以使所述表面变形；测量设备，其构造成测量在所述多个致动器中的第一致动器中产生的感应电动势；以及控制器，其构造成控制所述多个致动器，其中，控制器在使用所述多个致动器中的与第一致动器不同的第二致动器振动所述构件的同时使测量设备测量第一致动器中的感应电动势的经时变化、将测量的感应电动势的经时变化转换为频谱、并且根据所述频谱检测第一致动器中的异常。

技术领域

本发明涉及变形装置、曝光装置和制造物品的方法。

背景技术

用于制造半导体器件、液晶显示器件等的曝光装置需要校正投影光学系统的光学像差，以改善成像特性。因此，曝光装置可以设置有光学装置，该光学装置通过使用多个致动器向投影光学系统的反射镜施加力使反射镜变形来校正投影光学系统的光学像差。对于该光学装置，从精确控制反射镜的变形的角度来看，优选的是使用抗滞后的致动器，例如具有线圈和磁体的音圈电机(下文有时称为“VCM”)。

在这种情况下，如果光学装置具有已经发生了异常的致动器，则反射镜的光学像差可能无法通过被精确地变形而得到充分的校正。由于这个原因，优选的是定期检查(检测)每个致动器的异常。日本专利特开No.2015-65246提出了一种校正光学装置中的每个VCM的推力变化的方法。更具体地，多个VCM中的参考VCM被驱动单位量，以测量在其余VCM的线圈中产生的感应电动势。根据测量结果对其余VCM的推力变化进行校正。

当像日本专利特开No.2015-65246中公开的方法那样驱动参考VCM单位量时，在其余VCM的线圈中产生的感应电动势是微小的，并且信噪比非常低。这会导致难以根据感应电动势有效且准确地检测每个致动器中的异常。

发明内容

本发明提供了一种在有效且准确地检测使诸如光学元件(反射镜)之类的构件的表面变形的致动器中的异常方面有利的技术。

根据本发明的一个方面，提供了一种变形装置，其使构件的表面变形，变形装置包括：多个致动器，每个致动器构造成向所述构件施加力以使所述表面变形；测量设备，其构造成测量在所述多个致动器中的第一致动器中产生的感应电动势；以及控制器，其构造成控制所述多个致动器，其中，控制器在使用所述多个致动器中的与第一致动器不同的第二致动器振动所述构件的同时使测量设备测量第一致动器中的感应电动势的经时变化、将测量的感应电动势的经时变化转换为频谱、并且根据所述频谱检测第一致动器中的异常。

通过下文参考附图对示例性实施例的描述，本发明的其他特征将变得显而易见。

附图说明

图1是示出了根据第一实施例的变形装置的布置的示意图；

图2是示出了检测目标VCM中的异常的方法的流程图；

图3A是示出了目标VCM的感应电动势的经时变化的示例的曲线图；

图3B是示出了频谱的示例的曲线图；

图4A至4C是用于解释通过驱动振动VCM的方法获得的目标VCM中的感应电动势的经时变化和频谱的曲线图；

图5是示出了检测多个致动器中的异常的方法的流程图；

图6A和6B是示出了选择振动VCM的示例的视图；

图7是示出了根据第二实施例的变形装置的布置的示意图；

图8是示出了根据第三实施例的变形装置的布置的示意图；

图9是示出了根据第四实施例的变形装置的布置的示意图；

图10是示出了曝光装置的布置的示意图；

图11是示出了曝光装置中的曝光顺序的流程图；以及