[发明专利]变形装置、曝光装置和制造物品的方法

权利要求书

1.一种变形装置，其使构件的表面变形，变形装置包括：

多个致动器，每个致动器构造成向所述构件施加力以使所述表面变形；

测量设备，其构造成测量在所述多个致动器中的第一致动器中产生的感应电动势；以及

控制器，其构造成控制所述多个致动器，

其中，控制器在使用所述多个致动器中的与第一致动器不同的第二致动器振动所述构件的同时使测量设备测量第一致动器中的感应电动势的经时变化、将测量的感应电动势的经时变化转换为频谱、并且根据所述频谱检测第一致动器中的异常。

2.根据权利要求1所述的变形装置，其中，在使测量设备测量第一致动器中产生的感应电动势的经时变化的情况下，控制器控制第二致动器以使得所述构件的振动频率包括单一频率成分。

3.根据权利要求1所述的变形装置，其中，在使测量设备测量第一致动器中产生的感应电动势的经时变化的情况下，控制器控制第二致动器以使得所述构件的振动频率包括多种频率成分。

4.根据权利要求3所述的变形装置，其中，在使测量设备测量第一致动器中产生的感应电动势的经时变化的情况下，控制器控制第二致动器以对所述构件的振动频率进行扫频。

5.根据权利要求4所述的变形装置，其中，控制器控制第二致动器，以便在20Hz至120Hz的范围内对所述构件的振动频率进行扫频。

6.根据权利要求3所述的变形装置，其中，在使测量设备测量第一致动器中产生的感应电动势的经时变化的情况下，控制器控制第二致动器以使得所述构件的振动频率包括白噪声。

7.根据权利要求1所述的变形装置，其中，在使测量设备测量第一致动器中产生的感应电动势的经时变化的情况下，控制器控制第二致动器以使得所述构件的振动频率包括所述构件的共振频率。

8.根据权利要求1所述的变形装置，其中，在使用多个第二致动器振动所述构件的同时使测量设备测量第一致动器中的感应电动势的经时变化的情况下，控制器控制所述多个第二致动器以使得所述多个第二致动器的驱动相位彼此偏移。

9.根据权利要求1所述的变形装置，其中，控制器通过比较从感应电动势的经时变化转换而来的频谱与参考频谱来检测第一致动器中的异常。

10.根据权利要求1所述的变形装置，其中，控制器在使用第二致动器振动所述构件的同时使测量设备同时测量多个第一致动器中的每个致动器的感应电动势的经时变化。

11.根据权利要求1所述的变形装置，其中

所述多个致动器布置在所述构件和支撑所述构件的底板之间，

第一致动器包括固定至所述构件和底板中的一者上的磁体、以及固定至所述构件和底板中的另一者上的线圈，以及

测量设备测量线圈中的感应电动势。

12.根据权利要求1所述的变形装置，其中，第一致动器和第二致动器是相同类型的致动器。

13.根据权利要求1所述的变形装置，其中，第一致动器和第二致动器是不同类型的致动器。

14.根据权利要求1所述的变形装置，其中，第一致动器的数量小于第二致动器的数量。

15.一种曝光装置，其对基板进行曝光，曝光装置包括：

投影光学系统，其构造成将掩膜图案投影到基板上；

其中，投影光学系统包括在权利要求1至14中的任一项中限定的变形装置，并且

变形装置使包括在投影光学系统中的光学元件的光学表面变形，所述光学元件的光学表面作为所述构件的表面。

16.一种制造物品的方法，所述方法包括：

通过使用在权利要求15中限定的曝光装置对基板进行曝光；和

对在曝光过程中曝光的基板进行显影。