[发明专利]流体控制装置及其制造方法

权利要求书

1.一种流体控制装置，其特征在于，包括第一壳体和流体控制组件，所述第一壳体具有第一容纳腔，所述流体控制组件的至少部分位于所述第一容纳腔，所述流体控制组件包括第二壳体和阀芯，所述第二壳体具有第二容纳腔，所述阀芯的至少部分位于所述第二容纳腔，所述阀芯能够在带动下转动；

所述第一壳体包括第一侧壁，所述第二壳体包括第二侧壁，所述第一侧壁和所述第二侧壁之间密封设置，所述第一壳体具有贯穿所述第一侧壁的至少两个第一连通口，所述第二壳体具有贯穿所述第二侧壁的至少两个第二连通口，所述第二连通口与所述第二容纳腔连通，所述第一连通口与所述第二连通口连通；

所述流体控制组件还包括第一密封圈和限位座，所述限位座具有连通孔，所述第二容纳腔通过所述连通孔与所述第一连通口连通，所述限位座位于所述第二连通口内且与所述阀芯朝向所述第二侧壁的表面限位设置，所述第一密封圈套设于所述第二连通口的壁面和所述限位座的至少部分外表面之间，所述第一密封圈与所述阀芯之间密封设置。

2.根据权利要求1所述的流体控制装置，其特征在于，沿所述限位座的厚度方向，所述限位座包括第一限位部、台阶部以及第二限位部，所述台阶部位于所述第一限位部和所述第二限位部之间，

沿所述限位座的厚度方向，向所述台阶部投影，所述第一限位部的正投影的至少部分和所述第二限位部的正投影的至少部分均位于所述台阶部的内部，所述第一密封圈套设于所述第一限位部的外周侧且夹设于所述阀芯和所述台阶部之间，

所述流体控制装置还包括第一密封件，所述第一密封件包括第一子部和第二子部，所述第二子部套设于所述第二限位部的外周侧，所述第一子部套设于所述第二子部的外周侧，沿垂直于所述流体控制装置的高度方向，所述第一子部夹设于所述第一侧壁和所述第二侧壁之间，所述第二子部的部分夹设于所述台阶部和所述第一侧壁之间。

3.根据权利要求2所述的流体控制装置，其特征在于，所述第一壳体具有第一凹槽，所述第一凹槽自所述第一侧壁的内侧表面向所述第一侧壁凹陷，所述第一密封件的至少部分位于所述第一凹槽，所述第一凹槽的深度小于所述第一密封件的厚度；

或者，所述第二壳体具有第二凹槽，所述第二凹槽自所述第二侧壁的外侧表面向所述第二侧壁内部凹陷，所述第一密封件的至少部分位于所述第二凹槽，所述第二凹槽的深度小于所述第一密封件的厚度；

或者，所述第一壳体具有第一凹槽，所述第一凹槽自所述第一侧壁的内侧表面向所述第一侧壁内部凹陷，所述第二壳体具有第二凹槽，所述第二凹槽自所述第二侧壁的外侧表面向所述第二侧壁内部凹陷，所述第一凹槽和所述第二凹槽连通且形成容纳空间，所述第一密封件的至少部分位于所述容纳空间内，所述容纳空间的沿所述第一密封件的厚度方向的距离小于所述第一密封件的厚度。

4.根据权利要求1所述的流体控制装置，其特征在于，所述第一密封圈的厚度大于等于所述限位座的厚度，沿所述第一密封圈的厚度方向，所述第一密封圈穿过所述第二连通口且夹设于所述阀芯和所述第一侧壁之间，所述第一密封圈的一端与所述阀芯之间形成密封面，所述第一密封圈的另一端与所述第一侧壁之间形成密封面。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的流体控制装置，其特征在于，所述第一壳体还包括第一底壁，所述第一底壁和所述第一侧壁限定所述第一容纳腔，所述第二壳体还包括第二底壁，所述第二底壁与所述第二侧壁限定所述第二容纳腔，所述第二底壁与所述第一底壁邻近设置，所述第一壳体和所述第二壳体的其中一者包括凸起结构，另一者包括凹入结构，所述凸起结构嵌入所述凹入结构内以对所述第一底壁和所述第二底壁限位，

所述第二壳体与所述第一壳体同轴设置。