[发明专利]真空计校准装置及校准方法

权利要求书

1.一种真空计校准装置，其特征在于，包括依次相连通的供气源、流量计（F）、第一真空阀门（V1）、校准室（VC1）、限流孔（C1）、第三真空阀门（V3）、分子泵抽气机组（TMP）、第四真空阀门（V4）和前级泵（RP），所述校准室（VC1）具有赤道平面，所述赤道平面上开设有法兰接口分别连接有第一真空计（G1）、第二真空计（G2）和第二真空阀门（V2），所述第二真空阀门（V2）的另一端分别与第三真空计（G3）、第五真空阀门（V5）、第六真空阀门（V6）、第七真空阀门（V7）相连接，所述第五真空阀门（V5）的另一端连接有真空室（VC2），第六真空阀门（V6）另一端连接有第四真空计（G4），所述第七真空阀门（V7）的另一端与所述前级泵（RP）相连接，所述赤道平面上还设有校准接口用于连接待校准真空计；

所述校准室（VC1）设置为具有空腔的圆球结构，所述圆球结构顶端和底端分别设有连接法兰，所述圆球结构顶端的连接法兰与所述第一真空阀门（V1）相连接，所述限流孔（C1）设置在所述圆球结构底端的连接法兰上与所述第三真空阀门（V3）相连接；

所述分子泵抽气机组（TMP）包括相互连接的第一分子泵（TMP1）和第二分子泵（TMP2），所述第一分子泵（TMP1）的另一端与所述第四真空阀门（V4）连接，所述第二分子泵（TMP2）的另一端与所述第三真空阀门（V3）连接。

2.根据权利要求1所述的真空计校准装置，其特征在于，所述流量计（F）的气体流量范围为10^-5～10^-10 Pam³/s，并且测量合成标准不确定度小于3%。

3.根据权利要求1所述的真空计校准装置，其特征在于，所述限流孔（C1）的直径为110mm，孔径壁厚小于0.2mm。

4.根据权利要求1所述的真空计校准装置，其特征在于，所述赤道平面为通过所述校准室（VC1）球心并且与所述校准室（VC1）的顶端法兰与底端法兰平面的连接线相垂直的截面；

相邻所述赤道平面上的法兰接口与所述校准室（VC1）球心连接线的夹角为60°。

5.根据权利要求1所述的真空计校准装置，其特征在于，所述分子泵抽气机组（TMP）的抽速大于50L/s。

6.根据权利要求1所述的真空计校准装置，其特征在于，所述第一真空计（G1）的测量量程为10^-1～10^-8 Pa，测量的合成标准不确定度小于5%，所述第三真空计（G3）和第四真空计（G4）的测量量程分别为10⁵～10²Pa和10²～10^-1Pa，所述第三真空计（G3）和第四真空计（G4）的测量合成标准不确定度小于1%。

7.一种利用权利要求1-6任一项所述的真空计校准装置的校准方法，包括：

S1、将待校准真空计安装在所述校准室（VC1）的校准接口上，连接后进行检漏；

S2、打开所述第二真空计（G2），若所述第二真空计（G2）的读数大于第一预设值，则对所述校准室（VC1）进行抽真空操作；

S3、打开第一真空计（G1）、第三真空计（G3）、第四真空计（G4）和待校准真空计，当所述第二真空计（G2）显示所述校准室（VC1）中的真空度小于第二预设值，并且稳定一小时之后，对第三真空计（G3）和第四真空计（G4）进行调零操作；

S4、对所述待校准真空计的10^-1-10^-7量程范围进行校准；

S5、对所述待校准真空计的10²-10^-1量程范围进行校准；

S6、对所述待校准真空计的10⁵-10²量程范围进行校准。