[发明专利]一种新型抛光工艺

权利要求书

1.一种新型抛光工艺，其特征在于：

步骤一：对毛坯进行振光处理；

步骤二：对步骤一处理之后的部件进行机器抛光；机器抛光分为：机器表面抛光第一道，机器表面抛光第二道两道工序；

步骤三：步骤二处理之后的部件进行检验；

步骤四：检验完成之后进行整形处理；形成成品。

2.根据权利要求1所述的一种新型抛光工艺，其特征在于：步骤三中的检验是检验抛光效果；步骤四中的整形是对部件的几何结构进行调整以达到成品要求，前述的毛坯为金属制品。

3.根据权利要求1所述一种新型抛光工艺，其中：步骤二中的机器表面抛光第一道工序使用的是振动研磨粗磨设备，使用的粗磨石各化学组成配重比如下：

AL₂O₃ 60%~70%；

BN 8%~15%；

SiO₂ 14%~20%；

ErO₂ 2.8%；

TiO₂ 1.2%；

Na₂O 1.8%。

4.根据权利要求1所述一种新型抛光工艺，其中：步骤二中的机器表面抛光第二道工艺中使用的振动研磨设备，使用的中磨石各化学组成配重比如下：

AL₂O₃ 60%~70%；

树脂 (也称环氧树脂) 29%~40%；

固化剂（乙烯基苯胺 C₈H₉N） 1%~5%；

综合以上成分，将烧结温度达到 1350℃后，结晶提炼成新型的中磨石。

5.根据权利要求4所述一种新型抛光工艺，其中：

步骤二中中磨石表面抛光均使用了精磨液，各化学组分配重比如下：

月硅酸二乙醇酰胺 20%；

脂酚醇聚氧乙烯醚 10%；

油酸皂 20%；

木质磺酸钠 10%；

聚丙烯酸钠 5%；

凯松 1%；

水 34%。