[发明专利]被覆切削工具在审
申请号: | 202110571989.1 | 申请日: | 2021-05-25 |
公开(公告)号: | CN113714526A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 片桐隆雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社泰珂洛 |
主分类号: | B23B27/00 | 分类号: | B23B27/00;C22C29/08;C23C14/06;C23C14/32 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;柯梦云 |
地址: | 日本福岛县磐*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 被覆 切削 工具 | ||
1.一种被覆切削工具,其中,
所述被覆切削工具包含基材、以及形成于所述基材上的被覆层,
所述被覆层具有第1层以及第2层,所述第1层含有具有下述式(1)所表示的组成的化合物,所述第2层含有具有下述式(2)所表示的组成的化合物,
Ti(Cx1N1-x1) (1)
式(1)中,x1表示C元素相对于C元素与N元素的总量的原子比,并满足0.02≤x1≤0.30,
(Ti1-y1Aly1)N (2)
式(2)中,y1表示Al元素相对于Ti元素与Al元素的总量的原子比,并满足0.25≤y1≤0.75,
所述第1层中的粒子的平均粒径为5nm以上且不足100nm,
在所述第1层中,(111)面的衍射峰强度I(111)与(200)面的衍射峰强度I(200)之比为1.0≤I(111)/I(200)≤20.0,
所述第1层的平均厚度为5nm以上1.0μm以下,
在所述第2层中,(111)面的衍射峰强度I(111)与(200)面的衍射峰强度I(200)之比为0.1≤I(111)/I(200)≤1.0,
所述第2层中的粒子的平均粒径超过100nm且为300nm以下,
所述第2层的平均厚度为5nm以上2.0μm以下。
2.如权利要求1所述的被覆切削工具,其中,
所述第1层与所述第2层中的化合物整体的平均组成由下述式(3)表示,
(Ti1-y2Aly2)(Cx2N1-x2) (3)
式(3)中,x2表示C元素相对于C元素与N元素的总量的原子比,并满足0.01≤x2≤0.15,y2表示Al元素相对于Ti元素与Al元素的总量的原子比,并满足0.12≤y2≤0.38。
3.如权利要求1或2所述的被覆切削工具,其中,
所述第1层的残余应力为-4.0GPa以上-2.0GPa以下,所述第2层的残余应力为-2.0GPa以上0GPa以下。
4.如权利要求1~3中任一项所述的被覆切削工具,其中,
所述被覆层具有所述第1层与所述第2层交替地重复2次以上而形成的交替层叠结构。
5.如权利要求1~4中任一项所述的被覆切削工具,其中,
在所述第1层的X射线衍射中,(111)面出现最高峰。
6.如权利要求1~5中任一项所述的被覆切削工具,其中,
在所述第2层的X射线衍射中,(200)面出现最高峰。
7.如权利要求2所述的被覆切削工具,其中,
所述式(3)所表示的平均组成中的C元素的原子比x2与所述式(1)所表示的组成中的C元素的原子比x1之差ΔC(x1-x2)为0.01以上0.15以下。
8.如权利要求2所述的被覆切削工具,其中,
所述式(3)所表示的平均组成中的Al元素的原子比y2与所述式(2)所表示的组成中的Al元素的原子比y1之差ΔAl(y1-y2)为0.12以上0.38以下。
9.如权利要求1~8中任一项所述的被覆切削工具,其中,
所述被覆层整体的平均厚度为2.0μm以上10.0μm以下。
10.如权利要求1~9中任一项所述的被覆切削工具,其中,
所述基材为硬质合金、金属陶瓷、陶瓷或立方氮化硼烧结体中的任一种。
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