[发明专利]倍缩光罩容器及微影系统

说明书

一种倍缩光罩容器及微影系统，倍缩光罩容器包含底座，包含第一表面；以及遮盖，包含第二表面，遮盖以第一表面朝向第二表面的方式耦合至底座。底座与遮盖形成包含倍缩光罩的内部空间。此倍缩光罩容器包含限制机构配置于内部空间中，以固定内部空间中的倍缩光罩与邻设于倍缩光罩的结构。此结构至少局部围绕倍缩光罩，且限制倍缩光罩容器的外部环境与内部空间之间的污染的通路。此结构包含阻障设于第一表面与第二表面上。在其他例子中，填料设置于阻障与第一表面及第二表面之间的间隙中。在其他例子中，此结构包含墙结构设于第一表面与第二表面上以及限制机构之间。

技术领域

本揭露的实施方式是关于倍缩光罩容器及微影系统。

背景技术

微影装置从图案化元件(例如，光罩)投射图案至提供于半导体基材上的一层辐射敏感材料(光阻)上。当光罩不使用(储存)或从储存装置传送光罩至微影装置，例如步进器或扫描仪时，透过将光罩放置于光罩盒(箱)中，来适当地防止光罩受到污染物，例如灰尘或粒子的影响。

发明内容

依照本揭露的一些实施方式，一种倍缩光罩容器包含具有第一表面的底座与具有第二表面的遮盖，遮盖以第一表面朝向第二表面的方式耦合至底座。底座与遮盖之间形成内部空间，内部空间包含一倍缩光罩。此倍缩光罩容器还包含多个限制机构设于内部空间中，限制机构将倍缩光罩固定于内部空间中的适当位置；以及至少二个阻障彼此间隔且同心地设于内部空间中，并至少局部围绕倍缩光罩。此至少二个阻障配置以限制倍缩光罩容器的内部空间与外部环境之间的污染的通路。

依照本揭露的一些实施方式，一种倍缩光罩容器包含具有第一表面的底座与具有第二表面的遮盖，遮盖以第一表面朝向第二表面的方式耦合至底座。底座与遮盖之间形成内部空间，内部空间包含一倍缩光罩。此倍缩光罩容器亦包含多个限制机构设于内部空间中，限制机构将倍缩光罩固定于内部空间中的适当位置；以及墙结构延伸于多个限制机构之间，且接触多个限制机构。墙结构设于内部空间中，且至少局部包围倍缩光罩。

依照本揭露的一些实施方式，一种微影系统包含曝光腔室、倍缩光罩平台设于曝光腔室中、以及倍缩光罩元件库包含至少一倍缩光罩容器。此至少一倍缩光罩容器包含用于倍缩光罩平台的倍缩光罩。此至少一倍缩光罩容器装有包含倍缩光罩的内倍缩光罩容器。内倍缩光罩容器包含内底座；内遮盖耦合至内底座，且在其间形成内部空间；倍缩光罩置于内部空间中；多个限制机构设于内部空间中，且将倍缩光罩固定在适当位置；以及多个阻障设于内部空间中，且围绕倍缩光罩。多个阻障、内底座、以及内遮盖定义出曲折路径，曲折路径配置以限制内倍缩光罩容器的外部环境与内部空间之间的微粒的通路。

附图说明

下列详细的描述配合附图阅读可使本揭露的各方面获得最佳的理解。需注意的是，依照业界的标准实务，许多特征并未按比例绘示。事实上，可任意增加或减少各特征的尺寸以使讨论清楚。

图1A是依照本揭露的一些实施方式建构的具有激光产生的电浆(LPP)的极紫外线(EUV)辐射源的极紫外线微影系统的示意图；

图1B是依照本揭露的实施方式的极紫外线微影系统曝光机台的示意图；

图1C是绘示安装在放置于图1A的极紫外线微影系统中的倍缩光罩上的示意性薄膜组件；

图2是绘示极紫外线微影系统中的不同平台(或工作站)的例示布置的上视图；

图3是绘示极紫外线倍缩光罩盒的剖面示意图；

图4A是依照实施方式的图3中的包含倍缩光罩的极紫外线内光罩盒(EIP)的平面图；

图4B是图4A中的极紫外线内光罩盒(EIP)的剖面图；

图5A是依照一些实施方式的图3中的包含倍缩光罩的极紫外线内光罩盒(EIP)的平面图；

图5B是图5A中的极紫外线内光罩盒(EIP)的剖面图；