[发明专利]一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110565273.0 申请日: 2021-05-24
公开(公告)号: CN113295492A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 高健 申请(专利权)人: 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/32;G01N1/36;G01N21/95
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 豆贝贝
地址: 617000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 煤岩镜 质体 反射率 光片样 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、样品镶制:将煤岩粉末样品与环氧树脂和乙二胺在模具中搅拌混合,直至无大气泡出现,然后将模具置于真空条件下静置,得到镶制好的固结样品;

S2、光片磨制:利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制;所述磨制为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸进行磨制;所述磨制中,180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5~1min,800目和1200目砂纸的磨制时间均为1~1.5min;磨制压力设为10~20N,磨抛机压头和底盘设为异向转动,其中,压头转速为80~100r/min,底盘转速为120~150r/min;

S3、光片抛光:

第一步抛光:采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏对步骤S2得到的样品进行粗抛;

第二步抛光:采用短绒抛光布和煤岩抛光液对所述第一步抛光得到的样品进行抛光;

所述光片抛光中,磨抛机压头和底盘设为异向转动,其中,压头转速为50~60r/min,底盘转速为70~80r/min,压力设为20~25N;

S4、光片检验:

将步骤S3得到的光片擦拭干净后,置于光学显微镜下观察,检验光片是否合格;若合格,则结束制样;若不合格,则重复步骤S2~S3,直至光片合格。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺的质量分别为3~5g、7g和1.8g;

所述模具的内径为30mm。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述环氧树脂为EpoxiCureTM2;

所述大气泡的直径为2~6mm。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述真空条件的真空度为-25~-20kPa;

所述静置的时间为6~8h。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中:

所述磨制过程为水磨,水流逆压头转向沿压头边缘进行冲洗;

所述磨制中,每个规格的金刚石砂纸磨制后,均对样品和压头进行清洗,然后再进行下一规格金刚石砂纸的磨制。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,所述氧化铝抛光膏为2.5μm氧化铝抛光膏;

所述煤岩抛光液为KMY-05抛光液。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,第一步抛光的具体步骤为:将氧化铝抛光膏均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上,调节出水量大小,使水流呈滴状落于抛光区域,抛光时间为1.5~2min。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,第二步抛光的具体步骤为:将煤岩抛光液均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上,出水模式与第一步抛光一致,且每隔10s往压头外缘附近的抛光布上补滴抛光液,抛光时间为2~3min。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,每隔10s补滴抛光液的滴数为3~5滴。

10.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中,检验光片是否合格的标准为:光片表面平整干净、不存在明显划痕,煤颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕。

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