[发明专利]聚焦方法及装置、聚焦设备和存储介质

权利要求书

1.一种聚焦方法，其特征在于，包括：

通过第一传感器接收待测件反射的第一光源发射的光线以生成光信号，并根据所述光信号确定所述待测件和聚焦设备的距离值；

根据所述距离值调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，以使得所述待测件位于第一预设高度；

通过第二传感器接收倾斜入射所述待测件，且被所述待测件反射的第二光源发射的光线以生成检测图像；及

根据所述检测图像及所述第一预设高度对应的调节范围调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，以使得所述待测件处于第二预设高度；

所述根据所述光信号确定所述待测件和聚焦设备的距离值，包括：根据所述光信号的强度、颜色或波长确定所述距离值。

2.根据权利要求1所述的聚焦方法，其特征在于，还包括：

在所述检测图像包含光斑时，确定所述待测件处于所述第二预设高度。

3.根据权利要求1所述的聚焦方法，其特征在于，所述根据所述检测图像及所述第一预设高度对应的调节范围调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，以使得所述待测件处于第二预设高度，包括：

确定所述第二光源发射的光线在所述检测图像中形成的光斑位置；

根据所述光斑位置和所述检测图像的预设位置的偏差，调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离；及

在所述光斑位置与所述预设位置的偏差小于预设偏移范围时，确定所述待测件处于所述第二预设高度。

4.根据权利要求3所述的聚焦方法，其特征在于，所述确定所述第二光源发射的光线在所述检测图像中形成的光斑位置，包括：

根据预设阈值及所述检测图像的每个像素的像素值，将所述检测图像转化为二值图像；及

根据所述二值图像确定所述光斑位置。

5.根据权利要求4所述的聚焦方法，其特征在于，所述根据所述光斑位置和所述检测图像的预设位置的偏差，调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，包括：

根据所述光斑位置和所述检测图像的预设位置的相对位置，确定所述光斑的移动方向和移动距离；

根据所述移动方向确定距离调节方式以及根据所述移动距离确定调节距离；

根据所述距离调节方式和调节距离，调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离。

6.根据权利要求5所述的聚焦方法，其特征在于，所述根据所述移动方向确定距离调节方式，包括：

在所述移动方向为第一方向时，增大所述待测件和所述聚焦设备之间的距离；

在所述移动方向为第二方向时，减小所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，所述第二方向和所述第一方向相反，所述预设位置位于所述光斑的移动轨迹上。

7.一种聚焦装置，其特征在于，包括：

第一确定模块，用于通过第一传感器接收待测件反射的第一光源发射的光线以生成光信号，并根据所述光信号确定所述待测件和聚焦设备的距离值；

第一调节模块，用于根据所述距离值调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，以使得所述待测件位于第一预设高度；

生成模块，用于通过第二传感器接收倾斜入射所述待测件，且被所述待测件反射的第二光源发射的光线以生成检测图像；及

第二调节模块，用于根据所述检测图像及所述第一预设高度对应的调节范围调节所述待测件和所述聚焦设备之间的距离，以使得所述待测件处于第二预设高度；

所述根据所述光信号确定所述待测件和聚焦设备的距离值，包括：根据所述光信号的强度、颜色或波长确定所述距离值。