[发明专利]一种玻璃基宽阻带微波滤波器有效

专利信息
申请号: 202110559934.9 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113471653B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 刘晓贤;朱樟明;刘诺;刘阳;卢启军;尹湘坤;杨银堂 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01P1/208 分类号: H01P1/208
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 玻璃 基宽阻带 微波 滤波器
【权利要求书】:

1.一种玻璃基宽阻带微波滤波器,其特征在于,包括依次层叠的第一金属层(1)、第一介质层(2)、第二金属层(3)、键合层(7)、第三金属层(4)、第二介质层(5)和第四金属层(6),其中,

所述第一金属层(1)上设置有输入端口(11)和输出端口(13);

所述第一介质层(2)中贯穿有多个第一导体柱(8),所述多个第一导体柱(8)与所述第一金属层(1)、所述第二金属层(3)形成第一阶谐振腔(R1)、第二阶谐振腔(R2)、第五阶谐振腔(R5)和第六阶谐振腔(R6),所述第二阶谐振腔(R2)和所述第五阶谐振腔(R5)并列设置在所述第一阶谐振腔(R1)和所述第六阶谐振腔(R6)之间,所述第一阶谐振腔(R1)和所述第二阶谐振腔(R2)之间设置有第一耦合窗口(21),所述第五阶谐振腔(R5)和所述第六阶谐振腔(R6)之间设置有第三耦合窗口(23);

所述第二金属层(3)上设置有第一辐射窗口(15)、第二辐射窗口(16)、第三辐射窗口(17)、第四辐射窗口(18)、第五辐射窗口(19)和第六辐射窗口(20),所述第一辐射窗口(15)、所述第三辐射窗口(17)和所述第四辐射窗口(18)设置在所述第二阶谐振腔(R2)的底部,所述第二辐射窗口(16)、所述第五辐射窗口(19)和所述第六辐射窗口(20)设置在所述第五阶谐振腔(R5)的底部;

所述第三金属层(4)上设置有第七辐射窗口(24)、第八辐射窗口(25)、第九辐射窗口(26)、第十辐射窗口(27)、第十一辐射窗口(28)和第十二辐射窗口(29),所述第七辐射窗口(24)、所述第八辐射窗口(25)、所述第九辐射窗口(26)、所述第十辐射窗口(27)、所述第十一辐射窗口(28)和所述第十二辐射窗口(29)与所述第一辐射窗口(15)、所述第二辐射窗口(16)、所述第三辐射窗口(17)、所述第四辐射窗口(18)、所述第五辐射窗口(19)和所述第六辐射窗口(20)分别一一对应;

所述第二介质层(5)上贯穿有多个第二导体柱(9),所述多个第二导体柱(9)与所述第三金属层(4)、所述第四金属层(6)形成第三阶谐振腔(R3)和第四阶谐振腔(R4),所述第三阶谐振腔(R3)与所述第二阶谐振腔(R2)相对应,所述第四阶谐振腔(R4)与所述第五阶谐振腔(R5)相对应,所述第三阶谐振腔(R3)和所述第四阶谐振腔(R4)之间设置有第二耦合窗口(22);

所述第四金属层(6)接地。

2.根据权利要求1所述的玻璃基宽阻带微波滤波器,其特征在于,所述第一金属层(1)的侧壁上开设有第一凹槽(12)和第二凹槽(14),

所述第一凹槽(12)位于所述第一阶谐振腔(R1)的顶部,且所述输入端口(11)设置在所述第一凹槽(12)中;

所述第二凹槽(14)位于所述第六阶谐振腔(R6)的顶部,且所述输出端口(13)设置在所述第二凹槽(14)中。

3.根据权利要求1所述的玻璃基宽阻带微波滤波器,其特征在于,

所述第一阶谐振腔(R1)和所述第六阶谐振腔(R6)的谐振模式为TE103

所述第二阶谐振腔(R2)、所述第三阶谐振腔(R3)、所述第四阶谐振腔(R4)、所述第五阶谐振腔(R5)的谐振模式为TE101

4.根据权利要求3所述的玻璃基宽阻带微波滤波器,其特征在于,所述第一阶谐振腔(R1)中TE103谐振模式的谐振频率与所述第二阶谐振腔(R2)中TE101谐振模式的谐振频率相同。

5.根据权利要求1所述的玻璃基宽阻带微波滤波器,其特征在于,所述第一阶谐振腔(R1)、所述第二阶谐振腔(R2)、所述第三阶谐振腔(R3)、所述第四阶谐振腔(R4)和所述第五阶谐振腔(R5)均为长方形谐振腔体;

所述第六阶谐振腔(R6)由相互连通的第一部分(R61)、第二部分(R62)和第三部分(R63)形成,所述第一部分(R61)、所述第二部分(R62)和所述第三部分(R63)的形状均为矩形。

6.根据权利要求5所述的玻璃基宽阻带微波滤波器,其特征在于,所述第一阶谐振腔(R1)的长宽比为1.051。

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