[发明专利]烹饪设备

说明书

本发明公开了一种烹饪设备，烹饪设备包括：壳体，具有烹饪腔；气体循环装置，设置于壳体且用于驱动烹饪腔内的气体流动循环；加热装置，设置在烹饪腔内；搁架装置，包括：顶部搁架和底部搁架，顶部搁架设置于底部搁架的上方，顶部搁架与底部搁架之间具有间隙以形成气体流动通道，气体流动通道位于顶部搁架的下方；气体引导结构，设置成适于将通过气体循环装置吹出的气体引导至气体流动通道并通过顶部搁架。根据本发明实施例的烹饪设备强制热对流发生更充分，温度场分布更均匀，易于实现食物受热的均匀性和上色一致性，可以大幅缩短煮食时间，温度监控数据能更精确地反应对食物的加热温度，实现对加热过程的精准控制。

技术领域

本发明涉及厨房设备技术领域，更具体地，涉及一种烹饪设备。

背景技术

在相关技术中，具有空气炸功能的微波炉中，热风加热效果差，时间过长，上色不均匀，且热风系统体积大，至使微波炉本身体积增大，对整体外观影响较大。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种烹饪设备，所述烹饪设备能够实现食物的全方位立体加热，提高了加热均匀性，缩短了烹饪时间。

根据本发明实施例的烹饪设备，包括：壳体，所述壳体内具有烹饪腔；气体循环装置，所述气体循环装置设置于所述壳体且用于驱动所述烹饪腔内的气体流动循环；加热装置，所述加热装置设置在所述烹饪腔内；搁架装置，所述搁架装置包括：顶部搁架和底部搁架，所述顶部搁架设置于所述底部搁架的上方，所述顶部搁架与所述底部搁架之间具有间隙以形成气体流动通道，所述气体流动通道位于所述顶部搁架的下方；气体引导结构，所述气体引导结构设置成适于将通过所述气体循环装置吹出的气体引导至所述气体流动通道并通过所述顶部搁架。

根据本发明实施例的烹饪设备，通过壳体、气体循环装置、加热装置、搁架装置和气体引导结构配合在烹饪腔内形成一种内部热风风道，在烹饪设备外形体积一定的情况下，可以大幅度提高烹饪设备在空气炸方面的煮食效果，强制热对流发生更充分，温度场分布更均匀，易于实现食物受热的均匀性和上色一致性，可以大幅缩短煮食时间，满足大分量煮食的优异效果，温度监控数据能更精确地反应对食物的加热温度，实现对加热过程的精准控制，也无需增大烹饪设备的体积，保持了烹饪设备的整体美观性，且减小了占用空间。

另外，根据本发明上述实施例的烹饪设备还可以具有如下附加的技术特征：

根据本发明的一些实施例，所述气体引导结构包括：外部引导结构，所述外部引导结构至少部分地设置在所述气体流动通道的外围且适于将气体引导至所述气体流动通道内。

根据本发明的一些实施例，所述外部引导结构包括相对所述气体流动通道倾斜配置的外部引导壁，所述外部引导壁与所述烹饪设备的横截面的夹角α满足：110°≤α≤160°。

根据本发明的一些实施例，所述气体引导结构包括：内部引导结构，所述内部引导结构至少部分地设置在所述气体流动通道内且设置成用于将所述气体流动通道内的气体导向通过所述顶部搁架。

根据本发明的一些实施例，所述气体引导结构包括：外部引导结构和内部引导结构，所述底部搁架包括：底部搁架底壁和底部搁架侧壁，所述内部引导结构设置于所述底部搁架底壁，所述底部搁架侧壁构造为所述外部引导结构。

根据本发明的一些实施例，所述顶部搁架包括：顶部搁架底壁和顶部搁架侧壁；所述底部搁架包括：底部搁架底壁和底部搁架侧壁，所述底部搁架侧壁构造为所述外部引导结构；其中，所述顶部搁架侧壁与所述底部搁架侧壁相邻但间隔开以形成引风段，所述引风段与所述气体流动通道连通。

根据本发明的一些实施例，所述顶部搁架侧壁构造为环形的连续壁。

根据本发明的一些实施例，所述顶部搁架底壁设置有分隔支撑脚，所述分隔支撑脚支撑在所述底部搁架底壁上以将所述底部搁架底壁和所述顶部搁架底壁上下分隔开，从而在所述底部搁架底壁和所述顶部搁架底壁之间形成所述气体流动通道。