[发明专利]低温渗硫方法以及渗硫剂

权利要求书

1.一种渗硫剂，其特征在于，以重量份计，包括硫脲10～30g，硫代乙酰胺5～15g和1000mL去离子水，其中，所述硫脲的重量份大于所述硫代乙酰胺的重量份，所述硫脲用于水解产生活性硫原子，所述硫代乙酰胺用于水解产生H₂S或S^2-。

2.根据权利要求1所述的渗硫剂，其特征在于，所述硫脲为20～30g。

3.根据权利要求1所述的渗硫剂，其特征在于，所述硫代乙酰胺5～10g。

4.根据权利要求1所述的渗硫剂，其特征在于，所述硫脲和所述硫代乙酰胺的纯度均等于或大于99％。

5.一种低温渗硫方法，其特征在于，包括以下步骤：

工件清洗：将待处理的工件进行表面处理，以除去工件表面的油污和杂质；

渗硫剂配制：称取硫脲10～30g和硫代乙酰胺5～15g，并溶于1000mL去离子水中，得到渗硫剂；其中，所述硫脲的重量份大于所述硫代乙酰胺的重量份，所述硫脲用于水解产生活性硫原子，所述硫代乙酰胺用于水解产生H₂S或S^2-；

渗硫处理：将所述渗硫剂加入反应釜的内胆中，并将清洗后的工件放入所述渗硫剂中，使所述工件完全浸泡于所述渗硫剂中；将装有所述渗硫剂和所述工件的反应釜密封，并在150～220℃下反应12～36h；

渗硫后处理：待所述反应釜自然冷却后，取出所述反应釜内的工件，得到渗硫后的工件。

6.根据权利要求5所述的低温渗硫方法，所述硫脲为20～30g；

所述硫代乙酰胺为5～10g。

7.根据权利要求5所述的低温渗硫方法，其特征在于，所述工件清洗步骤中，对待处理的所述工件采用机械处理或化学处理中的至少一种进行表面处理；

所述机械处理包括打磨或擦拭中的至少一种；

所述化学处理包括化学脱脂或化学碱洗中的至少一种。

8.根据权利要求5所述的低温渗硫方法，其特征在于，所述渗硫处理中，所述渗硫剂的体积小于或等于所述内胆体积的2/3。

9.根据权利要求5所述的低温渗硫方法，其特征在于，所述渗硫处理中，所述反应釜位于干燥箱内，所述干燥箱提供反应温度150～220℃。