[发明专利]一种耐高温绝缘的高分子薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法包括以下步骤：

步骤一，进行耐高温绝缘的高分子薄膜原料的选择：选择蛋白成膜剂、丙烯酸树脂成膜剂、丁二烯树脂成膜剂、聚氨酯成膜剂、硝酸纤维成膜剂中的一种作为成膜剂；选择UV固化剂作为固化剂；使用微晶纤维素、纳米钛白粉进行改性剂的制备；按照质量份数称取环氧树脂、二氧化硅、表面活性剂、正烷烃、改性剂、云母、聚对苯二甲酸丁二醇酯、氮化铝、成膜剂、固化剂、超纯水，得到耐高温绝缘的高分子薄膜原料；

步骤二，使用二氧化硅进行纳米二氧化硅的制备：将表面活性剂与正烷烃混合得到混合料；将制备原料置于磁力搅拌器上，在搅拌的条件下缓慢滴入超纯水，分散均匀后进行水浴加热得到微乳液；向微乳液中加入无水乙醇并摇匀，得到混合液；将混合液置于离心机中进行离心，弃除上清液，得到纳米二氧化硅分散液；对纳米二氧化硅分散液进行加热，挥发乙醇，蒸干水，得到纳米二氧化硅；

步骤三，使用纳米二氧化硅进行改性纳米二氧化硅的制备：收集制备的纳米二氧化硅，对纳米二氧化硅进行粉碎得到纳米二氧化硅粉末；将纳米二氧化硅粉末溶于聚乙二醇中，搅拌均匀得到纳米二氧化硅溶液；对纳米二氧化硅溶液进行超声分散得到分散液；将分散液与改性剂进行混合，对纳米二氧化硅进行改性，得到改性纳米二氧化硅；

步骤四，进行云母的预处理得到云母粉：将云母置于粉碎机中粉碎得到块状云母；将块状云母置于球磨机中，设定第一次球磨的球磨压力与球磨时间，进行第一次球磨；第一次球磨结束后，向球磨机中加入乙醇，设定第二次球磨的球磨压力与球磨时间，进行第二次球磨；取出第二次球磨的产物，加热挥发乙醇，得到云母粉；

步骤五，进行耐高温绝缘的高分子薄膜的制备：将环氧树脂与固化剂混合，搅拌均匀，得到待固化物质；将改性纳米二氧化硅、云母粉、聚对苯二甲酸丁二醇酯、氮化铝进行混合，加入超纯水，搅拌均匀得到高分子混合料；将高分子混合料、待固化物质以及成膜剂混合，置于搅拌机中搅拌均匀，得到耐高温绝缘的高分子薄膜液化料；将耐高温绝缘的高分子薄膜液化料置于紫外线固化机中，使用紫外线进行照射，并在照射中使用延展机进行延展，得到耐高温绝缘的高分子薄膜。

2.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤二中，所述表面活性剂为直链烷基苯磺酸钠或是α-烯基磺酸钠中的一种。

3.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤二中，所述磁力搅拌的转速为600～800r/min，磁力搅拌的时间为30～45min。

4.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤二中，所述水浴加热的温度为26～30℃。

5.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤三中，所述对纳米二氧化硅进行粉碎得到纳米二氧化硅粉末，还包括：对粉碎后的纳米二氧化硅进行过筛。

6.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤三中，所述超声分散的频率为55～60kHz，超声分散的时间为20～25min。

7.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四中，所述第一次球磨的球磨压力为30～50N，球磨时间为10～15min。

8.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四中，所述第二次球磨的球磨压力为80～100N，球磨时间为20～30min。

9.如权利要求1所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法，其特征在于，步骤五中，所述延展的厚度为10～300μm。

10.一种应用如权利要求1～9所述耐高温绝缘的高分子薄膜的制备方法制备的耐高温绝缘的高分子薄膜，其特征在于，所述耐高温绝缘的高分子薄膜按照质量份数由环氧树脂8～12份、二氧化硅6～8份、表面活性剂3～4份、正烷烃2～3份、改性剂3～4份、云母3～5份、聚对苯二甲酸丁二醇酯3～4份、氮化铝2～3份、成膜剂3～4份、固化剂2～3份、超纯水10～30份组成。