[发明专利]一种变剪切比径向剪切干涉系统在审
| 申请号： | 202110491763.0 | 申请日： | 2021-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN113340440A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 蔡智骞;张军勇;杨朋千;朱健强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01J11/00 | 分类号： | G01J11/00 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 剪切 径向 干涉 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种变剪切比的径向剪切干涉系统，其特征在于，包括同光轴的剪切干涉单元(Ⅰ)、剪切比调控单元(Ⅱ)和波前探测单元(Ⅲ)；
所述剪切干涉单元(Ⅰ)，用于将入射光汇聚在多个共焦的焦点上，以方便后续剪切比调控单元进行剪切比选择；
所述剪切比调控单元(Ⅱ)，用于提取所需剪切比的径向剪切干涉信息；
所述波前探测单元(Ⅲ)，用于采集径向剪切干涉图，并处理获取剪切波前相位差，得到待测波前信息。
2.根据权利要求1所述的变剪切比的径向剪切干涉系统，其特征在于：所述剪切干涉单元(Ⅰ)由同光轴的多个光子筛构成，通过控制各光子筛的间距和焦距，使每个光子筛的焦点在所述的剪切比调控单元(Ⅱ)上共焦。
3.根据权利要求2所述的变剪切比的径向剪切干涉系统，其特征在于：所述的光子筛为2个。
4.根据权利要求1所述的变剪切比的径向剪切干涉系统，其特征在于：所述剪切比调控单元(Ⅱ)为轴向位置可调的滤波孔，通过沿光轴前后调节该滤波孔的位置，提取所需剪切比的径向剪切干涉信息。
5.根据权利要求1所述的变剪切比的径向剪切干涉系统，其特征在于：所述波前探测单元(Ⅲ)由波前探测处理单元和与该波前探测处理单元相连的计算机(5)构成。
6.根据权利要求6所述的变剪切比的径向剪切干涉系统，其特征在于：所述波前探测处理单元为CCD成像系统(4)。
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