专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]同轴多波长横向剪切波前测量系统及测量方法-CN202310829093.8在审
  • 蔡智骞;张军勇;杨朋千;朱健强 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2023-07-07 - 2023-10-27 - G01J9/02
  • 本发明公开了一种同轴多波长横向剪切波前测量系统。系统包括梯度分离单元、波前测量单元和复原单元。待测信号波前首先进入由一个衍射透镜构成的分束单元对不同波长波前实现梯度分离,之后通过波前测量单元进行四波横向剪切干涉,获取剪切干涉图。复原单元中,计算机通过傅利叶变换,在干涉图频谱中根据波前梯度不同实现光束分离,后续复原算法根据各个波长的频谱位置获取梯度引入量,进而复原原始波前。本发明所公开的同轴多波长横向剪切波前测量系统,针对现有的同轴多波长光束在不分束情况下难以测量的问题,实现了多波长光束的同轴单次测量。具有结构简单,测量方便等优点,也可对大口径、单发次的高能激光进行测量。
  • 同轴波长横向剪切测量系统测量方法
  • [发明专利]一种基于光栅分束器的大口径离轴抛物面镜的装调方法-CN202111191674.0有效
  • 姜卓偲;杨朋千 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2021-10-13 - 2023-10-10 - G02B27/62
  • 本发明涉及一种大口径离轴抛物面镜的装调方法,本发明的装调方法,利用光栅分束器将入射点光源分为水平和垂直方向两两对称、且参数一致的四束光;该四束光经分光元件透射后入射到待装调的离轴抛物面镜上;使经该离轴抛物面镜反射的四束平行光束按原光路返回至该离轴抛物面镜;经该离轴抛物面镜再次反射后,入射至所述的分光元件,经该分光元件反射后,由成像模块接收并成像;通过调节离轴抛物面镜的姿态,使成像模块靶面上的四个光斑位置重合,从而完成对离轴抛物面镜的调节。本发明的装调方法光路简单、体积小、无需借助辅助设备,经过迭代可快速收敛至理想状态完成离轴抛物面镜的姿态调节。
  • 一种基于光栅分束器口径抛物面镜方法
  • [发明专利]超短脉冲激光系统的色散调控装置与方法-CN202310316380.9在审
  • 姜有恩;傅敏;杨庆伟;杨朋千;潘雪;张志祥;李国扬;周丽;肖奇;李学春;朱健强 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2023-03-28 - 2023-07-07 - H01S3/13
  • 一种超短脉冲激光系统的色散调控装置与方法,装置包括光源系统,色散检测系统以及控制系统。光源系统由窄带可调谐光源、波长计、振幅调制器、电放大器及射频信号源构成,用于实现光信号的波长调节和振幅调制。色散检测系统由高速光电二极管、矢量网络分析仪构成,用于测量超短脉冲激光系统的群延迟及色散,并将结果提供给控制系统。控制系统用于控制光源系统的输出波长,实现光学扫频,并根据色散检测系统的测量结果,输出控制信号用于分别调节超短脉冲激光系统内的微调压缩器以及延时调节器,并通过循环迭代实现系统群延迟色散以及群延迟的精确调控。在该方法中,不同中心波长的光信号通过待测系统,并经光电二极管转换成高频电信号后,只需要测量不同电信号间的相位变化量,就能实现对激光系统的色散测量,不仅适用于超短脉冲激光系统的色散调控,也适用于单个组件的色散标定。
  • 超短脉冲激光系统色散调控装置方法
  • [发明专利]一种同轴瞄准系统-CN202211626795.8在审
  • 杨富丽;杨朋千;姜卓偲;崔勇;华能;樊全堂;王良玉;朱健强 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2022-12-16 - 2023-04-25 - F41G1/06
  • 本发明提供了一种同轴瞄准系统,用于惯性约束核聚变(ICF)皮秒终端光路靶点定位瞄准。该系统由投射反射镜、窗口、主反射镜、副反射镜、透镜组、柱面镜、CCD探测器组成,各光学元件同轴;该系统复用皮秒终端光路中的投射反射镜和窗口,无需额外增加靶室法兰窗口;采用柱面镜校正大角度倾斜投射反射镜引入的像散像差;考虑到投射反射镜需变换角度以精确引导激光落点位置变化,在波长590nm±7.5nm的照明光源和1053nm工作波长下,针对投射反射镜不同使用角度进行优化,均可实现高成像分辨率的要求;采用同轴两反结构,结构紧凑,体积较小。此外,由主反射镜、次反射镜和透镜组组成的卡塞格林结构和柱面镜独立设计,方便后期装调。
  • 一种同轴瞄准系统
  • [发明专利]一种变剪切比径向剪切干涉系统-CN202110491763.0在审
  • 蔡智骞;张军勇;杨朋千;朱健强 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2021-05-06 - 2021-09-03 - G01J11/00
  • 本发明公开了一种变剪切比径向剪切干涉系统,用于对波前进行测量。包括剪切干涉单元、剪切比调控单元、波前探测单元。待测信号波前首先进入由一对多焦点光子筛构成的剪切干涉单元生成放大、缩小波前,之后经过剪切比调控单元控制剪切比变化,最后通过波前探测单元成像,获取径向剪切干涉图,后续可通过算法复原原始波前。本发明所公开的变剪切比径向剪切干涉系统,针对现有的径向剪切干涉的剪切比固定、需要独立搭建剪切系统的缺点,采用多焦点光子筛组合的方法提高剪切比可选择性。具有结构简单,测量方便等优点,也可对大口径、单发次的高能激光进行测量。
  • 一种剪切径向干涉系统

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