[发明专利]一种化合物及其应用

权利要求书

1.一种化合物，其特征在于，所述化合物由式I所示的母核以及取代在所述母核任意位置的至少一个R基团构成，所述R基团具有式II所示的结构；

式I中，环A选自取代或未取代的C6-C30芳环、取代或未取代的C3-C30杂芳环中的任意一种；

式I中，所述Ar¹与取代在环A的邻位；

式I中，所述Ar¹、G¹和G²各自独立地选自取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C3-C30杂芳基中的任意一种；

式I中，所述L¹和L²各自独立地选自单键、取代或未取代的C6-C60亚芳基、取代或未取代的C3-C60亚杂芳基中的任意一种；

式I中，所述R⁰为单取代基到最大允许取代基，且所述R⁰选自氢、卤素、氨基、羟基、氰基、硝基、取代或未取代的C1-C20链状烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C1-C20硅烷基、取代或未取代的C1-C20硫代烷氧基、取代或未取代的C2-C20烯基、取代或未取代的C6-C60芳基、取代或未取代的C3-C60杂芳基、取代或未取代的C6-C60芳基氨基、取代或未取代的C3-C60杂芳基氨基中的任意一种，任意相邻的R⁰不连接或者相互连接成环；

式II中，所述R¹、R²和R³各自独立地选自取代或未取代的C1-C10链状烷基、取代或未取代的C3-C10环烷基中的任意一种，且所述R²和R³的碳原子个数均不超过R¹的碳原子个数；

其中，虚线代表基团的连接键；

环A、Ar¹、G¹、G²、L¹、L²、R⁰、R¹、R²和R³中，所述取代的基团各自独立地选自卤素、氨基、羟基、氰基、硝基、C1-C20链状烷基、C3-C20环烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20硅烷基、C1-C20硫代烷氧基、C2-C20烯基、C6-C60芳基、C3-C60杂芳基、C6-C60芳基氨基、C3-C60杂芳基氨基中的任意一种或至少两种组合，任意相邻的取代基不连接或相互连接成环。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述R基团取代在Ar¹、G¹或G²中任意一项或至少两项上。

3.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述R基团的取代个数为1个或2个。

4.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述化合物具有如下结构中的任意一种：

环A、Ar¹、G¹、G²、L¹、L²、R⁰和R均具有与权利要求1相同的限定范围。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的化合物，其特征在于，所述环A选自取代或未取代的C6-C30芳环，优选取代或未取代的苯环、取代或未取代的萘环、取代或未取代的联苯环中的任意一种；

环A中，所述取代的基团各自独立地选自卤素、氨基、羟基、氰基、硝基、C1-C20链状烷基、C3-C20环烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20硅烷基、C1-C20硫代烷氧基、C2-C20烯基、C6-C60芳基、C3-C60杂芳基、C6-C60芳基氨基、C3-C60杂芳基氨基中的任意一种或至少两种组合，任意相邻的取代基不连接或相互连接成环。