[发明专利]一种高透可单片使用的低辐射玻璃

说明书

本发明涉及光学镀膜玻璃生产制造技术领域，具体涉及一种高透可单片使用的低辐射玻璃，包括玻璃基底以及至少一层红外反射组合膜层，其特征在于，所述红外反射组合膜层包括依次接触设置的第一保护层氧化硅层、功能层氧化铟锡层和第二保护层氧化硅层。第一保护层氧化硅层和第二保护层氧化硅层以功能层氧化铟锡层对称设置，光线的折射反射易于调控。该方案简化了镀膜玻璃的膜系结构，钢化后的镀膜玻璃可见光透过率大于85％，辐射率低。具有良好的保温隔热性能和可见光透过率。

技术领域

本发明涉及光学镀膜玻璃生产制造技术领域，具体涉及一种高透可单片使用的低辐射玻璃。

背景技术

低辐射玻璃是一种能让室外太阳能、可见光透过，有像红外线反射镜一样，将物体二次辐射热反射回去的镀膜玻璃。在任何气候环境下使用，均能达到源、热量控制调节及改善环境的效果，具有传热系数低和反射红外线的特点。其主要功能是降低室内外远红外线的辐射能量传递，且允许太阳能辐射尽可能多的进入室内，从而维持室内的温度，节省暖气、空调费用的开支。通常实现的方式为，根据不同膜层材料搭配，不同膜层结构设计，获得较低的表面辐射率，使得镀膜玻璃对光波可选择性通过，反射红外波长，从而减少热量的损失。

现有的低辐射镀膜采用银作为红外反射功能层，膜层若长期暴露在空气中，易与空气中的硫物质发生反应，而发生氧化。镀膜过后的低辐射玻璃，必须合成中空玻璃，保证中空腔室处于干燥的环境中，否则膜层易被氧化，从而严重影响低辐射玻璃的节能效果及颜色外观。同时，由于易氧化特性，要求经过镀膜过后的玻璃，必须采取相应的保护措施，如贴膜，且对各工序的流转期有明确，这无疑提高了大规模生产的加工难度，也产生了生产过程中的材料浪费问题。

现有的低辐射节能玻璃由于受膜层结构以及厚度匹配的限制，为了充分保证性能，可见光透过率难以得到进一步提高，在一些日照不充足或者采光条件要求高的地方，低辐射玻璃产品的应用受到限制。

目前，低辐射玻璃使用的多层镀膜结构存在透过率低的问题，无法满足日照不充足或者采光要求高的场景使用。其次由于红外反射层Ag层的易氧化特性，在后续加工以及应用场景上，具有一定的局限性。

发明内容

本发明的目的在于：针对现有技术存在的现有的多层镀膜结构的低辐射玻璃存在透过率低问题，提供一种低辐射玻璃，该玻璃采用ITO层作为功能层并在ITO层两侧设置SiO₂层作为保护层，制得的镀膜玻璃具有较低的反射率，透过色接近浮法玻璃原片颜色，适用于多元化场景。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：

一种低辐射玻璃，包括玻璃基底以及至少一层红外反射组合膜层，所述红外反射组合膜层包括依次接触设置的第一保护层氧化硅层、功能层氧化铟锡层和第二保护层氧化硅层。

第一保护层氧化硅层、功能层氧化铟锡层、第二保护层氧化硅层依次远离玻璃基底。第一保护层氧化硅层和功能层氧化铟锡层接触，第二保护层氧化硅层和功能层氧化铟锡层接触。

在功能层氧化铟锡层内侧接触设置第一保护层氧化硅层，提高功能层氧化铟锡层对膜层的附着力。在功能层氧化铟锡层外侧接触设置第二保护层氧化硅层，起到对氧化铟锡层的保护作用。第一保护层氧化硅层和第二保护层氧化硅层以功能层氧化铟锡层对称设置，光线的折射反射易于调控。该方案简化了镀膜玻璃的膜系结构，钢化后的镀膜玻璃可见光透过率大于85％，辐射率低。具有良好的保温隔热性能和可见光透过率。

通过氧化硅层将氧化铟锡层进行保护，提高膜层机械性能，保证氧化铟锡功能层的完整性，得到的玻璃制品，可进行弯钢化处理，实现异地加工，满足不同加工厂、不同加工设备的生产要求。

作为本发明的优选方案，所述第一保护层氧化硅层的厚度为10nm～35nm。

进一步，所述第一保护层氧化硅层的厚度为10nm～30nm。

更进一步，所述第一保护层氧化硅层的厚度为18nm～25nm。