[发明专利]一种高透可单片使用的低辐射玻璃在审
| 申请号： | 202110481834.9 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113511819A | 公开（公告）日： | 2021-10-19 |
| 发明（设计）人： | 李建根;张开欣;李勇;邓军;张杰 | 申请（专利权）人： | 四川南玻节能玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人： | 张浩 |
| 地址： | 610213 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高透可 单片 使用 辐射 玻璃 | ||
1.一种低辐射玻璃，包括玻璃基底以及至少一层红外反射组合膜层，其特征在于，所述红外反射组合膜层包括依次接触设置的第一保护层氧化硅层、功能层氧化铟锡层和第二保护层氧化硅层。
2.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一保护层氧化硅层的厚度为10nm～35nm。
3.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第二保护层氧化硅层的厚度为10nm～35nm。
4.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述功能层氧化铟锡层的厚度为40nm～120nm。
5.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一保护层氧化硅层与所述第二保护层氧化硅层的厚度比例为1:3～3:1。
6.根据权利要求1-5任一所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述红外反射组合膜层和所述玻璃基底之间设有第一介质层氮化硅层。
7.根据权利要求6所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一介质层氮化硅层的厚度为10nm～28nm。
8.根据权利要求1-5任一所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述红外反射组合膜层外侧设有第二介质层氮化硅层。
9.根据权利要求8所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第二介质层氮化硅层的厚度为20nm～40nm。
10.根据权利要求1-5任一所述的低辐射玻璃，其特征在于，层膜结构为如下结构中的一种，
玻璃基底/氮化硅/氧化硅/氧化铟锡/氧化硅/氮化硅；或者，
玻璃基底/氮化硅/氧化硅/氧化铟锡/氧化硅/氧化铟锡/氧化硅/氮化硅。
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