[发明专利]一种钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土复合粉体及其制备方法和应用有效
申请号: | 202110480408.3 | 申请日: | 2021-04-30 |
公开(公告)号: | CN113277563B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 周宁琳;徐旺;孙宝宏;楚晓红;石绍泽;宋秋娴;刘奕含;张盼 | 申请(专利权)人: | 南京师范大学;南京周宁琳新材料科技有限公司 |
主分类号: | C01G41/00 | 分类号: | C01G41/00;C01B33/40;A01N59/16;A01N25/08;A01P1/00;C09D7/61 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 黄欣 |
地址: | 210097 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掺杂 青铜 蒙脱土 复合 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明公开一种具有光热效应的钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土复合粉体及其制备方法与应用。所述钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土的表达式为Cssubgt;x/subgt;Mosubgt;y/subgt;Wsubgt;1‑y/subgt;Osubgt;3/subgt;/MMT,其中0.20≤x≤0.33,0.01≤y≤0.30。本发明利用溶剂热法制备Cssubgt;x/subgt;Mosubgt;y/subgt;Wsubgt;1‑y/subgt;Osubgt;3/subgt;粉体,并通过水热法将Cssubgt;x/subgt;Mosubgt;y/subgt;Wsubgt;1‑y/subgt;Osubgt;3/subgt;与蒙脱土复合,合成工艺简单,原材料成本低。制备的Cssubgt;x/subgt;Mosubgt;y/subgt;Wsubgt;1‑/subgt;subgt;y/subgt;Osubgt;3/subgt;/蒙脱土复合粉体对于近红外光具有良好的屏蔽作用,将其应用于隔热涂料或者隔热薄膜(包括农用大棚膜、地膜)等领域具有较好的前景。同时,由于Cssubgt;x/subgt;Mosubgt;y/subgt;Wsubgt;1‑y/subgt;Osubgt;3/subgt;具有光热效果,且MMT具备良好的分散性能和生物相容性,因此,Cssubgt;x/subgt;Mosubgt;y/subgt;Wsubgt;1‑y/subgt;Osubgt;3/subgt;/MMT还可应用于抗菌领域。
技术领域
本发明涉及铯钨青铜复合材料领域,尤其涉及一种具有光热效应的钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土复合粉体及其制备方法与应用。
背景技术
太阳光辐射的热量半数来源于其近红外波段,尤其在炎热的夏天,持续高温造成大量能源消耗。近年来,科研人员致力于研究一种高隔热性能的材料来降低能耗。目前研究较为成熟的隔热材料有稀土六硼化物、锑掺杂氧化锡(ATO)、锡掺杂氧化铟(ITO)、钨青铜等。其中,钨青铜材料由于无毒、价格低、合成过程简单方便等优点,备受科研人员的青睐。
目前,已有大量文献报道铯钨青铜粉体的制备方法。主要包括固相反应法、溶剂热合成法、水热合成法等。但由于固相反应法合成过程需要高温(500- 800℃),极大的限制了其使用,因此溶剂热法和水热法较为常用。但现存文献报导制备铯钨青铜粉体应用到隔热涂料或者隔热薄膜中存在近红外光屏蔽率不高的缺点,如专利201910884300.3公开了一种铯钨青铜纳米粉体制备方法与应用,其在400-600 nm可见光范围内透过率高,但是在800-1200 nm近红外光范围内透过率超40%,近红外光屏蔽率不高。另外,文献未见钼掺杂铯钨青铜和蒙脱土构建成砖墙结构的报道,关于钼掺杂铯钨青铜蒙脱土砖墙结构的光热效应以及抗菌功能也未见报道。因此,现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
发明目的:鉴于上述现有技术的不足,本发明提供一种具有光热效应的钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土复合粉体及其制备方法与应用,旨在解决将其应用于涂料或者各种薄膜时,近红外光屏蔽效果差的问题。另外,由于铯钨青铜易聚集,将钼掺杂铯钨青铜分散在蒙脱土(MMT)基质上,并构建钼掺杂的铯钨青铜/蒙脱土砖墙结构,可以更好的实现该材料在抗菌领域的应用。
为了实现上述目的,本发明所述一种钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土复合粉体,以蒙脱土为载体,掺杂铯钨青铜负载在蒙脱土的表面和层间;
所述钼掺杂铯钨青铜的化学式为CsxMoyW1-yO3,其中0.20≤x≤0.33,0.01≤y≤0.30。
该钼掺杂铯钨青铜/蒙脱土复合粉体制备方法,包括以下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京师范大学;南京周宁琳新材料科技有限公司,未经南京师范大学;南京周宁琳新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110480408.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。