[发明专利]一种光学镀膜压入装置有效
申请号: | 202110448830.0 | 申请日: | 2021-04-25 |
公开(公告)号: | CN113355642B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 谢微;李晨 | 申请(专利权)人: | 江苏微纳光膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/50 |
代理公司: | 南京禹为知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32272 | 代理人: | 王晓东 |
地址: | 221400 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 镀膜 装置 | ||
本发明提供一种光学镀膜压入装置,包括,腔室组件,包括由真空罩与底座形成的真空腔室;溅射组件,设于真空腔室内,包括由若干磁控射枪,靶材和偏置磁场;定位组件,包括设于真空腔室内的夹持部件,以及驱动夹持部件调整方向的调向部件,夹持部件包括至少两个夹持件,夹持件形成夹持区域,夹持部件与调向部件连接。本发明提供的光学镀膜压入装置,通过在真空腔室中设置同时具有夹持和调向功能的定位组件,实现了带镀膜材料的多方位调节,满足复杂形状的镀膜要求。
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域,特别是,涉及光学镀膜压入装置。
背景技术
磁控溅射镀膜技术不断完善和发展,已经在工业上作为一项非常广泛应用的镀膜技术。磁控溅射镀膜的过程大致分为“电离、轰击、溅射、成膜”。即工作气体(Ar气分子)高压下电离出Ar+离子,在电磁场作用下轰击阴极靶材,靶材受到轰击辉光放电,产生等离子体,到达衬底基片成膜。
现有的镀膜设备通常将待镀膜基材固定在偏置磁场中,其位置和方向都固定。但现有的镀膜基材不可能全部都是平面,针对具有特异形状的镀膜基材,需要做到基材的方向和位置有一定程度的调节性。
发明内容
本部分的目的在于概述本发明的实施例的一些方面以及简要介绍一些较佳实施例。在本部分以及本申请的说明书摘要和发明名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和发明名称的目的模糊,而这种简化或省略不能用于限制本发明的范围。
因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的光学镀膜方向固定的缺陷,从而提供能提供多种。
为解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:一种光学镀膜压入装置,包括,
腔室组件,包括由真空罩与底座形成的真空腔室;
溅射组件,设于所述真空腔室内,包括由若干磁控射枪,靶材和偏置磁场;
定位组件,包括设于所述真空腔室内的夹持部件,以及驱动所述夹持部件调整方向的调向部件,所述夹持部件包括至少两个夹持件,所述夹持件形成夹持区域,所述夹持部件与所述调向部件连接。
作为本发明所述光学镀膜压入装置的一种优选方案,其中:所述夹持部件设于所述偏置磁场中央,所述定位组件与所述偏置磁场之间设有挡板,所述挡板中间留有针对所述夹持区域的通孔。
作为本发明所述光学镀膜压入装置的一种优选方案,其中:所述夹持部件包括同步驱动件,所述夹持件活动设置于所述同步驱动件上,所述同步驱动件带动所述夹持件向所述夹持区域中心靠近或远离。
作为本发明所述光学镀膜压入装置的一种优选方案,其中:所述同步驱动件包括环形驱动盘,且所述环形驱动盘上设有驱动螺纹,所述夹持件通过滑动块设于所述环形驱动盘上,所述滑动块上形成有若干与所述驱动螺纹适配的滑槽;所述环形驱动盘转动后,驱动所述滑动块沿径向直线移动。
作为本发明所述光学镀膜压入装置的一种优选方案,其中:所述夹持件沿着所述环形驱动盘分布有至少三个,其中至少一个所述夹持件上设有固定卡接器,至少一个所述夹持件上设有活动卡接器,所述活动卡接器通过螺栓转动连接在所述夹持件上,所述固定卡接器与所述活动卡接器上均设有卡接口。
作为本发明所述光学镀膜压入装置的一种优选方案,其中:所述夹持部件还包括导向套,同步驱动件与所述夹持件均设于所述导向套内,所述导向套沿径向开设有导向通道,所述滑动块侧壁上设有与所述导向通道适配的导向体。
作为本发明所述光学镀膜压入装置的一种优选方案,其中:所述调向部件包括,
调向架,固定设于所述真空腔室内;
调向臂,转动设于所述调向架上,一端与所述夹持部件连接;
摇摆驱动件,固定连接于所述调向架上,与所述调向臂的一端连接,驱动所述调向臂摆动。
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