[发明专利]一种槽盖装置和槽式清洗设备

权利要求书

1.一种槽盖装置，用于半导体槽式清洗设备，所述半导体槽式清洗设备包括用于进行清洗工艺的清洗槽，其特征在于，所述槽盖装置包括：

槽盖板、固定架和可伸缩机构；

所述固定架设置于所述清洗槽的槽壁外部，所述可伸缩机构设于所述固定架上；

所述槽盖板设置于所述清洗槽上方，所述槽盖板的一端固定设有连杆组件，所述连杆组件分别与所述固定架和所述可伸缩机构的伸缩端铰接，所述可伸缩机构用于驱动所述连杆组件进行转动，以使所述槽盖板进行翻转打开或关闭所述清洗槽的槽口。

2.根据权利要求1所述的槽盖装置，其特征在于，所述可伸缩机构包括至少一气缸组件，所述气缸组件包括气缸和支架，所述支架安装在所述固定架的下端，所述气缸的底部与所述支架铰接并可绕所述支架转动，所述气缸的活塞杆的伸缩端与所述连杆组件铰接。

3.根据权利要求2所述的槽盖装置，其特征在于，所述连杆组件包括公共连接部、第一连杆、第二连杆和第三连杆；其中，

所述公共连接部的一侧面与所述槽盖板的一端固定；

所述第一连杆、所述第二连杆和所述第三连杆平行设置；

所述第一连杆的一端和所述第二连杆的一端分别与所述公共连接部的两端连接，所述第一连杆的另一端和所述第二连杆的另一端分别与所述固定架顶部的两端铰接；

所述第三连杆的一端与所述公共连接部的中部连接，另一端与所述气缸的活塞杆的伸缩端铰接。

4.根据权利要求1所述的槽盖装置，其特征在于，所述槽盖板底面设有与所述清洗槽的顶部配合的凹槽，所述槽盖板处于关闭状态时，所述清洗槽的顶部与所述凹槽密封配合。

5.根据权利要求3所述的槽盖装置，其特征在于，所述固定架包括槽体固定板和运动部件支架，所述槽体固定板固定在所述清洗槽的侧壁上，所述运动部件支架固定在所述槽体固定板上，所述支架固定在所述运动部件支架的底端，所述连杆组件的第一连杆和第二连杆分别与所述运动部件支架顶端的两侧铰接。

6.根据权利要求3所述的槽盖装置，其特征在于，所述气缸的活塞杆的伸缩端与所述第三连杆通过双肘节接头铰接。

7.根据权利要求2所述的槽盖装置，其特征在于，所述气缸包括单杆双作用气缸。

8.根据权利要求2所述的槽盖装置，其特征在于，所述气缸组件还包括上调速阀和下调速阀，所述上调速阀与所述气缸的上腔体连接，所述下调速阀与所述气缸的下腔体连接，所述上调速阀和所述下调速阀用于控制所述气缸的活塞杆的伸缩速度。

9.根据权利要求2所述的盖装置，其特征在于，所述气缸组件还包括电磁阀，所述气缸具有第一进出气口和第二进出气口，所述电磁阀用于通过控制所述第一进出气口和所述第二进出气口的进气和排气状态，以使所述气缸的活塞杆进行伸出和缩回的运动。

10.一种槽式清洗设备，其特征在于，包括权利要求1至9任一项的所述的槽盖装置。