[发明专利]一种测量LDI内层对位精度的装置及其内层对位方法在审
| 申请号: | 202110428160.6 | 申请日: | 2021-04-21 |
| 公开(公告)号: | CN113126452A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
| 发明(设计)人: | 蔡文涛;邱田生;詹泽军 | 申请(专利权)人: | 东莞市多普光电设备有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 广东莞信律师事务所 44332 | 代理人: | 谢树宏 |
| 地址: | 523000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 测量 ldi 内层 对位 精度 装置 及其 方法 | ||
1.一种测量LDI内层对位精度的装置,包括基座,其特征在于,所述基座上设有XYZ移动台、由该XYZ移动台控制移动的吸盘台面和下对准组件,所述吸盘台面的一端设有能够移动的标定靶点,所述基座上还设有支架,所述支架的横梁上设有第一相机和能够水平移动的第二相机,所述吸盘台面的边缘间隔设有多个靶点光源;
将内层板放置在所述吸盘台面上,内层板的第一面朝上,激光直接对内层板的第一面图形曝光的同时、所述吸盘台面上的靶点光源对内层板的第二面进行打靶;
内层板的第二面图形曝光时、内层板的第二面朝上放置在所述吸盘台面上,所述第一相机、第二相机和下对准组件对内层板进行对位后、再由所述激光直接对内层板的第二面图形曝光。
2.根据权利要求1所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,所述下对准组件包括下CCD相机、透反棱镜、远心镜头和反射棱镜,所述下CCD相机与所述远心镜头之间设置所述透反棱镜,所述反射棱镜设置在所述远心镜头上。
3.根据权利要求2所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,所述透反棱镜包括有反射面和透射面,所述透反棱镜倾斜45度置于一立方体斜镜座上,所述透反棱镜的表面镀有透反膜,所述透反膜对λ450nm光波透射,对λ450nm的光波反射,这里的λ为光波。
4.根据权利要求2所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,所述吸盘台面的一端设有两个对称设置的标定靶点安装板,所述标定靶点安装板通过直线滑轨和滑块连接所述标定靶点,所述标定靶点安装板的端部设有移动气缸,所述移动气缸能够推动所述标定靶点沿着所述直线滑轨移动,所述标定靶点移动寻找与所述下对准组件的同轴位置。
5.根据权利要求4所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,内层板进行第一面和第二面曝光时、均需进行标定靶点的对位,所述标定靶点的对位是标定靶点对准所述第二相机和下对准组件的位置,先确认好第二相机和下对准组件相对于LDI曝光系统坐标系的旋转矩阵,再让第二相机和下对准组读取同一靶点,获取上下相机的同轴位置,当所述第二相机、标定靶点和下对准组件三者处于同轴状态下,激光才对内层板进行第一面和第二面曝光;
所述第二相机通过伺服电机带动同步轮同步带的方式驱动、使所述第二相机能够沿着直线滑轨上移动寻找不同位置的标定靶点。
6.根据权利要求4所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,将已曝光好的内层板重新置于所述吸盘台面上,由第二相机和下对准组件获取视场内的靶点图形位置,经与内层板的第一面和第二面的预设位置进行比较,获取到内层对位误差。
7.根据权利要求4所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,所述激光波段均为紫外波段,靶点光源所用的照明光源为红光、绿光或红外光。
8.根据权利要求4所述的测量LDI内层对位精度的装置,其特征在于,所述XYZ移动台包括X轴移动模组、Y轴移动模组和Z轴移动模组,所述Y轴移动模组由X轴移动模组控制X向移动,Z轴移动模组由Y轴移动模组控制Y向移动,Z轴移动模组控制整个吸盘台面的升降;
所述X轴移动模组、Y轴移动模组和Z轴移动模组均包括由伺服电机、传动丝杆和滑轨组件,X轴移动模组通过滑轨组件与Y轴移动模组连接,Y轴移动模组通过滑轨组件与Z轴移动模组连接。
9.一种测量LDI内层对位精度的方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)、确认第二相机和下对准组件相对于激光直写曝光系统坐标系的旋转矩阵R;
具体方法为:第二相机读取标定靶点位置,针对标定靶点在X方向移动一个视野范围内的距离,再读取移动后的靶点位置,根据两个靶点位置计算出旋转矩阵R;两个靶点位置连线与第二相机坐标系x轴的夹角即是旋转矩阵角;
2)、激光投射出1~2mm直径的圆形光斑,经由透反棱镜反射进下CCD相机成像,针对圆形光斑在X方向移动一个视野范围内的距离,再读取移动后的圆形光斑位置,根据两个圆形光斑位置计算出旋转矩阵P;
3)、第二相机和下对准组件读取标定靶点上的同一靶点,获取到第二相机和下CCD相机的同轴位置;
4)、将设计好的图形曝光在内层板两面上,第一面和第二面的图形点在理论上同心;
5)、将已蚀刻好的内层板重新置于吸盘台面上,并针对每一次放置都通过第二相机确认内层板上阵列图形点相对于LDI曝光系统坐标系的旋转矩阵S;
6)、最后通过第二相机和下对准组件读取内层板上多个相同位置的图形点,将获取到的距离偏差通过旋转矩阵S算出X、Y方向的偏差,再求多个点的平均,即得到可用于内层对位补偿的位置偏差(Δx,Δy)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市多普光电设备有限公司,未经东莞市多普光电设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110428160.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种表面强化内台阶轴内孔精密成形工艺
- 下一篇:一种有防护层的挡雨晒衣杆





