[发明专利]集成电路层间耦合部分累加的粗颗粒并行迭代方法及装置有效
申请号: | 202110425232.1 | 申请日: | 2021-04-20 |
公开(公告)号: | CN112989678B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 唐章宏;邹军;汲亚飞;黄承清;王芬 | 申请(专利权)人: | 北京智芯仿真科技有限公司 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23;G06F30/33;G06F17/16;G06F17/18 |
代理公司: | 北京星通盈泰知识产权代理有限公司 11952 | 代理人: | 李筱 |
地址: | 100085 北京市海淀区信*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成电路 耦合 部分 累加 颗粒 并行 方法 装置 | ||
1.一种集成电路层间耦合部分累加的粗颗粒并行迭代方法,其特征在于,包括如下步骤:首先将集成电路层间耦合的计算划分为两类并行粗颗粒,第一类并行粗颗粒为基于二维有限元计算集成电路各层电磁场和电流分布,第二类并行粗颗粒为基于并矢格林函数计算源层对其他层的影响;
其次,建立管理进程控制整个迭代循环,基于划分的并行粗颗粒将每次迭代的计算分割为多个计算任务,并行发起多个计算进程,动态的为每个计算进程分发计算任务,每个计算进程独立完成计算任务,通过反复迭代更新集成电路各源层的电磁场和电流分布,以及各源层的作用范围,直到所有场的改变量均小于指定阈值,迭代结束;
其中,将集成电路层间耦合的计算划分为两类并行粗颗粒,第一类并行粗颗粒为基于二维有限元计算集成电路各层电磁场和电流分布,第二类并行粗颗粒为基于并矢格林函数计算源层对其他层的影响,具体包括:每个并行粗颗粒对应一个计算任务,所述计算任务由计算进程完成,对于第一类并行粗颗粒,计算进程根据施加的源项,采用二维有限元计算第
其中,建立管理进程控制整个迭代循环,基于划分的并行粗颗粒将每次迭代的计算分割为多个计算任务,并行发起多个计算进程,动态的为每个计算进程分发计算任务,每个计算进程独立完成计算任务,通过反复迭代更新集成电路各源层的电磁场和电流分布,以及各源层的作用范围,直到所有场的改变量均小于指定阈值,迭代结束,包括以下步骤:
步骤S100、大规模集成电路总计为
步骤S200、划分
步骤S300、管理进程将
步骤S400、管理进程检查待计算任务序列是否为空,如果是,进入步骤S1000,否则进入步骤S500;
步骤S500、管理进程检查是否存在闲置的计算进程,如果存在,随机动态的取出待计算任务序列中的计算任务分发给闲置的计算进程;
步骤S600、管理进程检查是否存在第一类并行计算颗粒已经完成且未处理,如果是,转入步骤S700,否则进入步骤S800;
步骤S700、管理进程针对每个所述的已经完成且未处理的第一类并行计算颗粒,划分个第二类并行粗颗粒,加入到待计算任务序列,设置所述第一类并行计算颗粒为已处理,进入步骤S400;
步骤S800、管理进程检查是否存在第二类并行计算颗粒已经完成且未处理,如果是,转入步骤S900,否则等待预设待定时间,进入步骤S400;
步骤S900、管理进程将所述已经完成且未处理的第二类并行计算颗粒的计算结果
步骤S1000、管理进程检查所有第一类并行计算颗粒的结果,如果,迭代结束,输出各层的电磁场和电流分布,其中为预先设定的迭代精度;否则,执行步骤S1100;
步骤S1100、管理进程检查所有第二类并行计算颗粒的结果,选取
步骤S1200、管理进程选取出所有满足|
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