[发明专利]一种用于制备纳米磁流变流体的装置

权利要求书

1.一种用于制备纳米磁流变流体的装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)上固定安装有控制箱(2)，且底座(1)中设置有空腔(3)，所述空腔(3)中固定安装有定位壳(4)，且空腔(3)中转动安装有绕卷辊(5)，所述绕卷辊(5)上绕卷有绝缘垫(6)和拉绳(7)，且拉绳(7)固定连接在阻断罩(8)上，所述阻断罩(8)固定连接在平衡块(9)上，且绝缘垫(6)上设置有防滑纹(10)，且绝缘垫(6)上固定连接有驱动绳(11)，所述驱动绳(11)固定连接在滑块(12)上，且滑块(12)上连接有联动绳(13)，所述联动绳(13)进入安装槽(14)中，且安装槽(14)中转动安装有转向轮(15)，所述联动绳(13)连接在顶杆(16)上，且顶杆(16)转动连接在保护板(17)上，所述保护板(17)转动安装在延伸台(19)上，所述滑块(12)上设置有卡槽(20)，且延伸台(19)上设置有滑槽(21)，所述滑槽(21)中滑动安装有定位销(22)，且定位销(22)上固定连接有弹簧(23)，且定位销(22)上转动连接有杠杆(24)，所述杠杆(24)上固定安装有磁板(25)，且滑块(12)上固定安装有磁块(26)。

2.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米磁流变流体的装置，其特征在于：所述控制箱(2)安装在底座(1)的顶部，且两者之间设置有减振杆，所述定位壳(4)设置在空腔(3)的中心处，且绕卷辊(5)通过轴承进行安装，且绕卷辊(5)通过电机驱动。

3.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米磁流变流体的装置，其特征在于：所述阻断罩(8)活动连接在控制箱(2)顶部，且拉绳(7)以及平衡块(9)分别连接在阻断罩(8)的前后两侧，所述平衡块(9)滑动安装在控制箱(2)背部的导轨上。

4.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米磁流变流体的装置，其特征在于：所述防滑纹(10)设置在绝缘垫(6)的上表面，且驱动绳(11)连接在绝缘垫(6)的下表面，所述滑块(12)滑动安装在延伸台(19)的内部限位槽中，且驱动绳(11)贯穿延伸台(19)与滑块(12)连接，且联动绳(13)连接在滑块(12)的另一侧。

5.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米磁流变流体的装置，其特征在于：所述安装槽(14)与滑块(12)所处的限位槽之间连通有线槽，且联动绳(13)位于线槽中，所述转向轮(15)设置有两个，且联动绳(13)连接在顶杆(16)的中部，所述顶杆(16)连接在保护板(17)的下表面折叠槽中，两者构成折叠结构。

6.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米磁流变流体的装置，其特征在于：所述卡槽(20)设置在滑块(12)的上表面，且滑槽(21)为多级槽，所述定位销(22)贯穿滑槽(21)进行设置，且杠杆(24)连接在定位销(22)的侧面，所述磁板(25)以及磁块(26)为异名磁极相对设置，且磁块(26)安装在滑块(12)的前端。