[发明专利]光学层叠体及包括该光学层叠体的柔性显示面板在审

专利信息
申请号: 202110421488.5 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113534305A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 安钟南 申请(专利权)人: SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02F1/1337;G09F9/30
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 安玉;太香花
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 层叠 包括 柔性 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种光学层叠体,其包括:聚酰亚胺基膜,形成在所述聚酰亚胺基膜的一面上的自修复性阻隔粘着层,形成在所述聚酰亚胺基膜的背面上的硅氧化物沉积层。

2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在所述硅氧化物沉积层上还包括硬涂层。

3.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,在所述硬涂层上还包括选自防静电层、防指纹层、防污层、防刮擦层、低折射层、防反射层和冲击吸收层中的任一种以上的功能性涂层。

4.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的透湿率为1×10-3g/m2·天以下。

5.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的全光线透光率为90%以上,雾度为1%以下,黄色指数为3以下。

6.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的铅笔硬度为3B以上,维氏硬度为30HV以上。

7.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硅氧化物沉积层通过选自化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸镀法、热蒸镀法和激光分子束外延(L-MBE)的方法形成。

8.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硅氧化物沉积层由SiO2形成。

9.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述自修复性阻隔粘着层对玻璃的粘着力为0.5kgf/英寸以上。

10.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述自修复性阻隔粘着层由包含聚丁二烯结构的固化性树脂形成。

11.根据权利要求10所述的光学层叠体,其中,所述聚丁二烯结构是衍生自聚丁二烯改性的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯的结构。

12.根据权利要求10所述的光学层叠体,其中,所述自修复性阻隔粘着层还包含衍生自包含脂环的丙烯酸酯的结构。

13.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D882的断裂伸长率为8%以上,模量为6GPa以上。

14.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D1746在388nm下测量的透光率为5%以上且在400-700nm下测量的全光线透光率为87%以上,雾度为2.0%以下,黄色指数为5.0以下,并且b*值为2.0以下。

15.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜包含聚酰胺酰亚胺结构。

16.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜包含衍生自氟基芳香族二胺的单元、衍生自芳香族二酐的单元和衍生自芳香族二酰氯的单元。

17.根据权利要求16所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜还包含衍生自脂环族二酐的单元。

18.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜的厚度为10-500μm,所述自修复性阻隔粘着层的厚度为10-100μm,所述硅氧化物沉积层的厚度为2-500nm。

19.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层的厚度为1-50μm。

20.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层的铅笔硬度为3H以上。

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