[发明专利]光学层叠体及包括该光学层叠体的柔性显示面板在审
申请号: | 202110421488.5 | 申请日: | 2021-04-20 |
公开(公告)号: | CN113534305A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 安钟南 | 申请(专利权)人: | SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14;G02F1/1337;G09F9/30 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 安玉;太香花 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 层叠 包括 柔性 显示 面板 | ||
1.一种光学层叠体,其包括:聚酰亚胺基膜,形成在所述聚酰亚胺基膜的一面上的自修复性阻隔粘着层,形成在所述聚酰亚胺基膜的背面上的硅氧化物沉积层。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在所述硅氧化物沉积层上还包括硬涂层。
3.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,在所述硬涂层上还包括选自防静电层、防指纹层、防污层、防刮擦层、低折射层、防反射层和冲击吸收层中的任一种以上的功能性涂层。
4.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的透湿率为1×10-3g/m2·天以下。
5.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的全光线透光率为90%以上,雾度为1%以下,黄色指数为3以下。
6.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的铅笔硬度为3B以上,维氏硬度为30HV以上。
7.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硅氧化物沉积层通过选自化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸镀法、热蒸镀法和激光分子束外延(L-MBE)的方法形成。
8.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述硅氧化物沉积层由SiO2形成。
9.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述自修复性阻隔粘着层对玻璃的粘着力为0.5kgf/英寸以上。
10.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述自修复性阻隔粘着层由包含聚丁二烯结构的固化性树脂形成。
11.根据权利要求10所述的光学层叠体,其中,所述聚丁二烯结构是衍生自聚丁二烯改性的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯的结构。
12.根据权利要求10所述的光学层叠体,其中,所述自修复性阻隔粘着层还包含衍生自包含脂环的丙烯酸酯的结构。
13.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D882的断裂伸长率为8%以上,模量为6GPa以上。
14.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D1746在388nm下测量的透光率为5%以上且在400-700nm下测量的全光线透光率为87%以上,雾度为2.0%以下,黄色指数为5.0以下,并且b*值为2.0以下。
15.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜包含聚酰胺酰亚胺结构。
16.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜包含衍生自氟基芳香族二胺的单元、衍生自芳香族二酐的单元和衍生自芳香族二酰氯的单元。
17.根据权利要求16所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜还包含衍生自脂环族二酐的单元。
18.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述聚酰亚胺基膜的厚度为10-500μm,所述自修复性阻隔粘着层的厚度为10-100μm,所述硅氧化物沉积层的厚度为2-500nm。
19.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层的厚度为1-50μm。
20.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,所述硬涂层的铅笔硬度为3H以上。
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