[发明专利]一种基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统及方法

权利要求书

1.一种基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，包括：太赫兹波源、探测光源、衰减全反射模块、电光晶体、起偏器、分束器、检偏器与图像成像模块；

所述太赫兹波源用于发射太赫兹波；

所述衰减全反射模块的外表面贴附待成像样品，所述衰减全反射模块设于所述太赫兹波源的出光路上，用于接收所述太赫兹波源发射的所述太赫兹波，还用于将所述太赫兹波与所述待成像样品进行耦合后，将耦合后的太赫兹波反射至所述电光晶体中；

所述探测光源用于发射探测光；

所述起偏器设于所述探测光源的出光路上，用于接收所述探测光后，将所述探测光入射至所述分束器中；

所述分束器的工作面与所述起偏器的工作面呈45度，用于接收经所述起偏器后的探测光，从而将所述探测光分为两束，还用于将其中一束探测光入射至所述电光晶体中；

所述电光晶体设于所述衰减全反射模块与所述分束器之间的光路上，用于分别接收所述衰减全反射模块和所述分束器反射的所述太赫兹波和所述探测光，从而产生电光效应，以改变所述探测光的极化场，还用于将改变极化场后的所述探测光进行反射，使所述探测光沿原光路返回，经过所述分束器和所述检偏器入射至所述图像成像模块中；

所述图像成像模块用于根据所述探测光获得所述待成像样品的图像信息。

2.根据权利要求1所述的基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，所述探测光源采用激光器。

3.根据权利要求1所述的基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，所述电光晶体相对所述分束器远离的表面镀有增反膜，用于反射所述探测光，所述电光晶体相对所述分束器靠近的表面镀有增透膜，用于透射所述探测光。

4.根据权利要求1所述的基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，所述衰减全反射模块具体为衰减全反射棱镜。

5.根据权利要求1所述的基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，所述检偏器的出光路上设有凸透镜。

6.根据权利要求1或5所述的基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，所述图像成像模块包括CCD相机和计算机；

所述CCD相机用于接收所述探测光后获得相应的图像信息，还用于将所述图像信息传输至所述计算机中；

所述计算机用于基于预先获取的未放置所述待成像样品的初始图像信息，去除所述图像信息的背景噪声。

7.根据权利要求5所述的基于电光效应的反射式太赫兹显微成像系统，其特征在于，所述图像成像模块包括空间光调制器、单像素探测器与计算机，所述空间光调制器和所述单像素探测器均与所述计算机电连接；

所述空间光调制器设于所述检偏器和所述凸透镜之间的光路上，用于对所述探测光进行空间编码调制，生成编码矩阵；

所述单像素探测器设于所述凸透镜的出光路上，用于接收经过所述空间光调制器空间编码调制后的探测光，从而获得相应的总信号功率；

所述计算机用于根据所述总信号功率和所述编码矩阵，采用预设的压缩传感算法重构所述待成像样品的图像矩阵，从而获得所述待成像样品的图像信息。