[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202110408585.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN113534545A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 安达浩一郎 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1335
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,具备:

第一基板,具备:扫描线;信号线,与所述扫描线交叉;共用电极,遍及显示图像的显示区域而配置;无机绝缘膜,配置于所述共用电极之上;第一像素电极,配置于所述无机绝缘膜之上,并配置于所述显示区域中的最外周的第一主像素,且具有第一带电极及第二带电极;以及第二像素电极,配置于所述无机绝缘膜之上,并配置于所述显示区域中的比所述第一主像素靠内侧的第二主像素,且具有第三带电极及第四带电极;

第二基板,具备与所述第一带电极重叠的遮光层;以及

液晶层,配置于所述第一基板与所述第二基板之间,

所述第一像素电极以及所述第二像素电极与相同的所述信号线电连接,

所述遮光层具有:第一开口,使所述第二带电极露出;以及第二开口,使所述第三带电极及所述第四带电极露出,

所述第一开口的大小比所述第二开口的大小小,

所述第二带电极的宽度比所述第一带电极的宽度小。

2.如权利要求1所述的显示装置,其中,

所述第三带电极的宽度与所述第四带电极的宽度相等,比所述第一带电极的宽度小、且比所述第二带电极的宽度大。

3.如权利要求2所述的显示装置,其中,

与所述共用电极重叠的所述第一像素电极的面积和与所述共用电极重叠的所述第二像素电极的面积相等。

4.如权利要求3所述的显示装置,其中,

从所述第一开口露出的所述第二带电极为一根。

5.如权利要求3所述的显示装置,其中,

所述第一开口的纵横比与所述第二开口的纵横比相等。

6.如权利要求3所述的显示装置,其中,

所述第一基板还具备第三像素电极,该第三像素电极配置于所述显示区域中的最外周的第三主像素,且具有第五带电极及第六带电极,

所述第一像素电极以及所述第三像素电极与相同的所述扫描线电连接,

所述遮光层具有第三开口,该第三开口与所述第三像素电极重叠,

所述第三开口的大小比所述第二开口的大小小、且与所述第一开口的大小相等或为其以上,

所述第五带电极的宽度以及所述第六带电极的宽度与所述第三带电极的宽度相等。

7.如权利要求6所述的显示装置,其中,

所述第二基板还具备周边遮光层,该周边遮光层与所述遮光层一体地形成,

所述第一主像素的两条边与所述周边遮光层邻接,

所述第三主像素的一条边与所述周边遮光层邻接。

8.一种显示装置,具备:

第一基板,具备:扫描线;信号线,与所述扫描线交叉;共用电极,遍及显示图像的显示区域而配置;无机绝缘膜,配置于所述共用电极之上;以及第一像素电极,配置于所述无机绝缘膜之上,并配置于所述显示区域中的最外周的第一主像素,且具有第一带电极及第二带电极;

第二基板,具备与所述第一带电极重叠的遮光层;以及

液晶层,配置于所述第一基板与所述第二基板之间,

所述遮光层具有第一开口,该第一开口使所述第二带电极露出,

所述第二带电极的宽度比所述第一带电极的宽度小。

9.如权利要求8所述的显示装置,其中,

所述第一基板还具备第三像素电极,该第三像素电极配置于所述显示区域中的最外周的第三主像素,且具有第五带电极及第六带电极,

所述第一像素电极以及所述第三像素电极与相同的所述扫描线电连接,

所述遮光层具有第三开口,该第三开口与所述第三像素电极重叠,

所述第三开口的大小与所述第一开口的大小相等或为其以上,

所述第五带电极的宽度,与所述第六带电极的宽度相等,比所述第一带电极的宽度小,且比所述第二带电极的宽度大。

10.如权利要求9所述的显示装置,其中,

与所述共用电极重叠的所述第一像素电极的面积和与所述共用电极重叠的所述第三像素电极的面积相等。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本显示器,未经株式会社日本显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110408585.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top