[发明专利]衍射光学组件及获取方法、光学系统有效
申请号: | 202110397369.0 | 申请日: | 2021-04-13 |
公开(公告)号: | CN113514910B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 方红;姜鹏 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B5/18;G03F1/84 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衍射 光学 组件 获取 方法 光学系统 | ||
本申请提供了衍射光学组件及获取方法、光学系统。其中衍射光学组件包括第一基础元件,第一基础元件具有第一透光区及第一非透光区。第二基础元件,第二基础元件具有第二透光区及第二非透光区,第一基础元件与第二基础元件层叠设置,第一非透光区覆盖至少部分第二透光区,第二非透光区覆盖至少部分第一透光区,并使剩余的第一透光区与剩余的第二透光区形成目标透光区。通过第一基础元件与第二基础元件的组合,使原本复杂的衍射光学元件分解成几个简单的基础元件,从而降低衍射光学元件的制备难度与制备时间,降低了检测成本。另外,由于第一基础元件与第二基础元件可重复使用,可进一步降低衍射光学元件的成本。
技术领域
本申请属于衍射光学组件技术领域,具体涉及衍射光学组件及获取方法、光学系统。
背景技术
在掩模的制作过程中通常会出现缺陷,此时需要通过AIMS检测在与晶圆曝光的相同条件下该缺陷的成像质量,那么此时掩模厂家需要制作与晶圆曝光条件相同的衍射光学元件(DOE)来实现相同的曝光条件。但这种衍射光学元件的生产难度较大,周期较长,远远赶不上掩模的制备时间,从而需等待衍射光学元件,进而提高了检测时间与检测成本。
发明内容
鉴于此,本申请第一方面提供了一种衍射光学组件,所述衍射光学组件包括:
第一基础元件,所述第一基础元件具有第一透光区及第一非透光区;
第二基础元件,所述第二基础元件具有第二透光区及第二非透光区,所述第一基础元件与所述第二基础元件层叠设置,所述第一非透光区覆盖至少部分所述第二透光区,所述第二非透光区覆盖至少部分所述第一透光区,并使剩余的所述第一透光区与剩余的所述第二透光区形成目标透光区。
本申请第一方面提供的衍射光学组件,通过将第一基础元件与第二基础元件层叠设置,并利用第一非透光区与第二非透光区分别覆盖第二透光区与第一透光区后得到的图像进行组合,从而得到用户所需的目标透光区。也可以理解为,现有技术中的衍射光学元件的数量为1个,且该衍射光学元件上具有目标透光区。而本申请是利用第一基础元件与第二基础元件的组合,即剩余的第一透光区与剩余的第二透光区的组合形成目标透光区,从而使原本复杂的衍射光学元件分解成几个简单的基础元件,从而降低衍射光学元件的制备难度与制备时间,降低了检测成本。另外,由于第一基础元件与第二基础元件可重复使用,因此可进一步降低衍射光学元件的成本。
其中,所述第一非透光区覆盖至少部分所述第二非透光区,并使所述第一非透光区与剩余的所述第二非透光区形成目标非透光区。
其中,所述第一基础元件与所述第二基础元件间隔设置。
其中,所述第一基础元件与所述第二基础元件的面积相等,且所述第一非透光区的面积大于所述第二非透光区的面积;所述第一基础元件相较于所述第二基础元件靠近光源。
其中,所述第二基础元件的数量为多个,所述多个第二基础元件均层叠设于所述第一基础元件的一侧。
其中,相邻的两个所述第二基础元件间隔设置。
本申请第二方面提供了一种衍射光学组件的获取方法,所述获取方法包括:
获取预设图像,并根据所述预设图像得到目标光源图像与模拟光源图像;
判断所述目标光源图像与所述模拟光源图像中特征值的差值;以及
当所述差值小于预设值时,根据所述模拟光源图像得到第一基础元件与第二基础元件,并将所述第一基础元件与所述第二基础元件组合形成衍射光学组件。
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