[发明专利]超导薄膜的参数测量装置在审

专利信息
申请号: 202110393627.8 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN115201726A 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 秦明阳;张若舟;袁洁;金魁 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: G01R33/12 分类号: G01R33/12
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;张靖琳
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 超导 薄膜 参数 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种超导薄膜的参数测量装置,其特征在于,包括:

腔室,所述腔室的底部用于对超导薄膜提供机械支撑;

互感线圈,用于向所述超导薄膜提供磁场并采集表征所述超导薄膜的磁穿透深度的测量信号;以及

位于所述腔室内的第一电极和第二电极,所述第二电极用于与所述超导薄膜电连接,

其中,在磁性测量模式下,所述腔室内填充有离子液体,所述离子液体至少覆盖所述第一电极和所述超导薄膜,从而所述参数测量装置通过调整所述第一电极和所述第二电极之间的栅压控制所述离子液体,以调整所述超导薄膜的化学组分。

2.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,所述互感线圈包括:分别设置于所述腔室的底面的上下两侧的驱动线圈和接收线圈,所述驱动线圈和所述接收线圈的绕向相同。

3.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,所述互感线圈包括:分别设置于所述腔室的底面的上下两侧的驱动线圈和接收线圈,所述驱动线圈和所述接收线圈各包括绕向相反且互相串联的一对线圈。

4.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,所述互感线圈包括:设置于所述腔室的底面一侧的驱动线圈和接收线圈,所述驱动线圈和所述接收线圈的轴线重合,且所述接收线圈对称分布于所述驱动线圈的两侧,所述接收线圈包括绕向相反且互相串联的一对线圈。

5.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,所述第一电极位于所述腔室的底部,所述第二电极靠近所述腔室的底部设置。

6.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,还包括:温度传感器,集成于所述腔室内,用于获得所述超导薄膜的温度数据。

7.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,还包括:

印刷电路板,与电学源表电连接,

在所述磁性测量模式下,所述电学源表经由所述印刷电路板向所述第一电极和所述第二电极提供所述栅压,

在电学测量模式下,所述电学源表经由所述印刷电路板对所述超导薄膜进行电学性能表征。

8.根据权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,所述腔室包括由非磁性材料形成的第一部分和第二部分,所述第一部分具有凹槽,所述第二部分可拆卸的连接至所述第一部分,且至少位于所述凹槽上方。

9.根据权利要求8所述的参数测量装置,其特征在于,所述腔室的所述第一部分和/或所述第二部分中具有用于容纳所述线圈拖的空腔,所述参数测量装置还包括:设置于所述空腔内的线圈拖,用于容纳所述互感线圈。

10.权利要求1所述的参数测量装置,其特征在于,还包括:金属支架,用于支撑所述腔室,并提供所述腔室的散热路径。

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