[发明专利]一种阵列基板、阵列基板母版、显示面板和显示装置有效
申请号: | 202110389965.4 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113031360B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 仝远;张荡;吴伟;张伊伊;李凯;朱陶和;刘翔;代俊锋;陈麒;陈炎;张昊;周逸琛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鹏 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 母版 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括基底,依次设置在所述基底上的驱动结构层、绝缘层和段差改善层,所述基底包括显示区、围绕所述显示区的非显示区,以及,位于所述非显示区远离所述显示区一侧的切割保留区,所述绝缘层在所述基底上的正投影覆盖所述显示区、非显示区和切割保留区;覆盖所述非显示区的所述绝缘层的部分与覆盖所述切割保留区的所述绝缘层的部分之间存在沿所述阵列基板厚度方向上的段差;所述段差改善层在所述基底上的正投影至少覆盖所述切割保留区,以使得位于所述切割保留区的所述阵列基板的远离所述基底一侧的表面与位于所述非显示区的所述阵列基板的远离所述基底一侧的表面相平齐。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述段差改善层的正投影还覆盖所述非显示区,且位于所述切割保留区的段差改善层远离所述基底一侧的表面至所述基底的第一距离,与位于所述非显示区的段差改善层远离所述基底一侧表面至所述基底的第二距离相同;或者,所述第一距离与所述第二距离不同。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,位于所述切割保留区的段差改善层远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离,与位于所述非显示区的绝缘层远离所述基底一侧表面至所述基底的距离相同。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设置在所述绝缘层远离所述基底一侧的取向层,所述取向层在所述基底上的正投影覆盖所述显示区,所述段差改善层远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离,与所述取向层远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离相同。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述取向层远离所述基底一侧表面为被摩擦处理过的表面,且所述段差改善层远离所述基底一侧的表面为未被摩擦处理过的表面。
6.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述段差改善层与所述取向层同层设置。
7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述段差改善层在垂直于所述基底的方向的最大厚度为1.3微米至2微米。
8.根据权利要求1至7任一所述的阵列基板,其特征在于,所述段差改善层的材料包括有机材料。
9.一种阵列基板母版,其特征在于,包括基底,依次设置在所述基底上的驱动结构层、绝缘层和段差改善层,所述基底包括至少一个阵列基板区,以及,围绕所述阵列基板区的切割区,所述绝缘层在所述基底上的正投影覆盖所述阵列基板区和切割区;覆盖所述阵列基板区的所述绝缘层的部分与覆盖所述切割区的所述绝缘层的部分之间存在沿所述阵列基板母版厚度方向上的段差;所述段差改善层在所述基底上的正投影至少覆盖所述切割区,以使得位于所述切割区的所述阵列基板母版的远离所述基底一侧的表面与位于所述阵列基板区的所述阵列基板母版的远离所述基底一侧的表面相平齐。
10.根据权利要求9所述的阵列基板母版,其特征在于,所述阵列基板区包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,所述段差改善层的正投影还覆盖所述非显示区,且位于所述切割区的段差改善层远离所述基底一侧的表面至所述基底的第一距离,与位于所述非显示区的段差改善层远离所述基底一侧表面至所述基底的第二距离相同。
11.一种显示面板,其特征在于,包括彩膜基板和如权利要求1至8任一所述的阵列基板。
12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,还包括:设置在所述彩膜基板和所述阵列基板之间的封框胶,所述封框胶中设置有填充物,所述填充物的大小根据所述显示面板的盒厚和所述段差改善层的厚度确定。
13.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求11或12所述的显示面板。
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