[发明专利]光处理组件、ToF发射装置以及ToF深度信息探测器

权利要求书

1.光处理方法，其特征在于，包括步骤：

通过至少一光整形器，对经由发射光源的各个光源单元发射的探测光进行光束整形，以收窄该探测光的发散角度，并将各个该探测光的中心传播方向导向分区预设的中心角度；和

通过一匀光器，匀化经由各个该光源单元发射的该探测光，并调整该探测光的照射范围，以在目标视场内形成连续均匀的照明区间。

2.如权利要求1所述的光处理方法，其中，该发射光源的各个该光源单元按照预定的时序点亮，使得各个该光源单元按照预定的时序发射该探测光，并且被处理后的该探测光所形成的目标视场区间组合成该目标视场。

3.如权利要求1所述的光处理方法，其中，该匀光器是基于自身表面的微结构对光的折射作用来进行匀光，并通过改变微结构的形状和排布来调整匀光角度、光场的空间和能量分布。

4.如权利要求3所述的光处理方法，其中，设置该光整形器于该匀光器的光入射方向，以通过该光整形器对经由该发射光源投射至该匀光器的探测光进行光场预整形。

5.如权利要求3所述的光处理方法，其中，设置该光整形器于该匀光器的光出射方向，以通过该光整形器将经由该匀光器匀化的该发射光源各分区光束导向对应的角度范围。

6.如权利要求1至5中任一所述的光处理方法，其中，该匀光器包括多个匀光单元，其中各该匀光单元用于匀化对应的该光源单元所发射的该探测光，其中该匀光器的该匀光单元的匀光角满足以下关系：

其中，θ_H和θ_V分别表示该匀光器的各个匀光单元在第一方向和第二方向上的匀光角；N_x和N_y分别为该发射光源的该光源单元在第一方向和第二方向上的数量；W和H分别为该发射光源的该光源单元在第一方向和第二方向上的尺寸；x和y分别为相邻的该光源单元在第一方向和第二方向上的间隔距离；FOV_H和FOV_V分别为在第一方向和第二方向上的总视场角；i和j分别为该光源单元在第一方向和第二方向上的分区序号。

7.ToF发射方法，其特征在于，包括步骤：

通过一发射光源，发射探测光；

通过至少一光整形器，对所发射的该探测光进行光束整形，以收窄该探测光的发散角度，并将各个该探测光的中心传播方向导向分区预设的中心角度；以及

通过一匀光器，匀化所发射的该探测光，并调整该探测光的照射范围，以在目标视场内形成连续均匀的照明区间。

8.如权利要求7所述的ToF发射方法，其中，在所述通过一发射光源，发射探测光的步骤中：

按照一定次序以分区发射的方式周期性地发射该探测光，以点亮该目标视场。

9.ToF深度信息探测方法，其特征在于，包括步骤：

通过一发射光源，发射探测光；

通过至少一光整形器，对所发射的该探测光进行光束整形，以收窄该探测光的发散角度，并将各个该探测光的中心传播方向导向分区预设的中心角度；

通过一匀光器，匀化所发射的该探测光，并调整该探测光的照射范围，以在目标视场内形成连续均匀的照明区间；以及

通过一接收装置，接收该目标视场内该探测光的反射光，以获取该目标视场的深度信息。

10.如权利要求9所述的ToF深度信息探测方法，其中，该光整形器和该匀光器为一体式结构，或者该光整形器和该匀光器被对位地固定。