[发明专利]一种Micro LED显示屏的抛光处理方法

说明书

本发明公开了一种Micro LED显示屏的抛光处理方法，属于显示屏抛光处理方法技术领域，本发明处理方法步骤为：先在待加工的Micro LED显示屏上开设数个孔径为2‑3μm、孔深为8‑10μm的开孔，然后将开好孔的Micro LED显示屏放置在超声波清洗机中采用清洗液进行清洗，最后将清洗后的MicroLED显示屏浸没于化学抛光药水中进行抛光处理，本发明的方法制备的MicroLED显示屏具有屏幕色彩纯度高，显示屏光滑几乎无划痕，大大延长了MicroLED显示屏的使用寿命。

技术领域

本发明涉及显示屏抛光处理方法技术领域，尤其涉及一种Micro LED显示屏的抛光处理方法。

背景技术

Micro LED是新一代显示技术，是LED微缩化和矩阵化技术，简单来说，就是将LED背光源进行薄膜化、微小化、阵列化，可以让LED单元小于100微米，与OLED一样能够实现每个图元单独定址，单独驱动发光。Mini/Micro LED(简称MLED)显示技术在近两年进入加速发展阶段，可以使用在中小型高附加价值显示器应用领域。相较OLED屏幕，MLED显示可以在成本、高亮度和轻薄外形上表现出更佳性能，但是Micro LED显示屏屏幕色彩纯度不够，屏幕显示屏上划痕太多，因此此类显示屏相对而言寿命较短。

发明内容

本发明实施例提供一种Micro LED显示屏的抛光处理方法，以解决现有技术中显示屏屏幕色彩纯度不够，屏幕显示屏上划痕太多，因此此类显示屏相对而言寿命较短的问题。

本发明实施例采用下述技术方案：包括一种Micro LED显示屏的抛光处理方法，其技术点在于：包括以下步骤：

步骤一，将待加工的Micro LED显示屏置于操作台上，开设数个孔径为2-3μm、孔深为8-10μm的开孔，两个所述开孔的间距为25-35μm；

步骤二，将开好孔的Micro LED显示屏放置在超声波清洗机中采用清洗液进行清洗，通过频率在20-130KHZ的超声波对Micro LED显示屏进行清洗，清洗2-4min，除去MicroLED显示屏上的玻璃残渣；

步骤三，将步骤二中清洗后的Micro LED显示屏浸没于化学抛光药水中，通过翻转Micro LED显示屏控制刻蚀速率为1-3μm/min，刻蚀25-100min。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法步骤一中开孔的方式激光刻蚀。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法激光开孔处理时控制激光器的波长为2-3μm，脉冲宽度为10-20ns，激光冲击功率密度为0.2-0.3GW/cm²，能量为7-9J。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法，按照重量分数计，步骤二中超声波清洗液组分有：纳米石墨相氮化碳2-4份、羟基乙酸10-15份、硬脂酸甘油酯4-5份、氢氧化钾6-8份、二苯甲酮10-15份、二乙二醇丁醚4-6份、生桐油7-10份和去离子水60-80份。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法，按照重量分数计，步骤三中化学抛光药水组分有：硫酸5-10份、盐酸1-3份、氟化氢铵5-10份和水80-90份。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法硫酸浓度是98wt％。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法盐酸浓度是34wt％。

在本发明的有的实施例中，上述的一种Micro LED显示屏的抛光处理方法氟化氢铵纯度≥99.9wt％。

本发明实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：