[发明专利]一种人脸识别方法、检测方法、介质及电子设备在审

专利信息
申请号: 202110372506.5 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113111762A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 张善旭;李耀磊 申请(专利权)人: 瑞芯微电子股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 徐秋平
地址: 350003 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 识别 方法 检测 介质 电子设备
【说明书】:

发明提供一种人脸识别方法、检测方法、介质及电子设备。所述人脸识别方法包括:获取一目标图像,其中,所述目标图像包括一目标对象的人脸区域;获取所述投射器对应于所述目标图像在人脸距离下的直射区域作为第一区域;获取所述目标图像中的人眼区域作为第二区域;当所述第一区域与所述第二区域之间的重叠范围小于等于一特定阈值时,开启所述投射器并利用所述人脸识别设备对所述目标对象进行人脸识别。所述人脸识别方法能够保证人脸识别过程中的人眼安全。

技术领域

本发明涉及一种识别方法,特别是涉及一种人脸识别方法、检测方法、介质及电子设备。

背景技术

近年来,人脸识别技术在许多领域都得到了广泛应用。人脸识别技术可以采用人脸的二维图像或三维图像作为输入源对用户的人脸进行检测和识别,其中,三维图像包含人脸图像的深度数据,因而可以采用更加复杂的人脸检测和识别算法进行处理,相对于二维图像具有更高的安全性。

在相关技术中,主要通过结构光或TOF(Time of flight,飞行时间)等方式来获取人脸图像的深度数据。在此过程中,人脸识别设备需要利用投射器向用户的面部投射光线,例如,在一些结构光或TOF方案中需要利用激光器向用户的面部投射红外光。发明人在实际应用中发现,尽管人脸识别设备在出厂前都需要进行人脸安全认证,然而,当人脸识别设备中能够分散光线能量的光学器件出现老化、损坏或脱落等故障时,例如,当结构光模组中的DOE(Diffractive Optical Elements,衍射光学元件)脱落时,投射器投射的光线可能会直射用户的眼部,此时,投射器会对用户的眼睛造成伤害。

发明内容

鉴于以上所述相关技术的缺点,本发明的目的在于提供一种人脸识别方法、检测方法、介质及电子设备,用于解决相关的人脸识别技术可能会对用户的眼睛造成伤害的问题。

为实现上述目的及其他相关目的,本发明的第一方面提供一种人脸识别方法,应用于人脸识别设备,所述人脸识别设备包括深度摄像头模组,所述深度摄像头模组包括投射器,所述人脸识别方法包括:获取一目标图像,其中,所述目标图像包括一目标对象的人脸区域;获取所述投射器对应于所述目标图像在人脸距离下的直射区域作为第一区域;获取所述目标图像中的人眼区域作为第二区域;当所述第一区域与所述第二区域之间的重叠范围小于等于一特定阈值时,开启所述投射器并利用所述人脸识别设备对所述目标对象进行人脸识别。

于所述第一方面的一实施例中,获取所述第一区域的一种实现方法包括:获取所述目标对象与所述深度摄像头模组之间的距离;根据所述深度摄像头模组的设计标准参数和设计标准基线、以及所述目标对象与所述深度摄像头模组之间的距离,获取所述投射器的标准直射区域;根据所述投射器的标准直射区域获取所述第一区域。

于所述第一方面的一实施例中,获取所述第一区域的一种实现方法包括:获取所述目标对象与所述深度摄像头模组之间的距离;获取第一直射区域,其中,所述第一直射区域是指所述投射器处于标定阶段时在红外图上的直射区域;根据所述目标对象与所述深度摄像头模组之间的距离以及所述第一直射区域,获取第二直射区域,其中,所述第二直射区域是指所述投射器处于人脸识别阶段时在所述目标对象与所述深度摄像头模组之间的距离下红外图上的直射区域;根据所述目标对象与所述深度摄像头模组之间的距离、所述结构光模组的内参矩阵和外参矩阵以及所述第二直射区域,获取所述第一区域。

于所述第一方面的一实施例中,所述深度摄像头模组为结构光模组,获取所述第一直射区域的实现方法包括:获取所述投射器的红外标定图;获取所述投射器在所述红外标定图上的直射区域作为所述第一直射区域。

于所述第一方面的一实施例中,获取所述投射器在所述红外标定图上的直射区域作为所述第一直射区域的实现方法包括:根据所述投射器的零级直射区域中心的散斑分布形态,获取所述红外标定图中的对应点作为所述第一直射区域的中心点;根据所述投射器的零级直射区域顶点的散斑分布形态,获取所述红外标定图中的对应点作为所述第一直射区域的顶点;根据所述第一直射区域的中心点和顶点获取所述第一直射区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞芯微电子股份有限公司,未经瑞芯微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110372506.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top