[发明专利]一种甘草次酸修饰的多吡啶钌配合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种甘草次酸修饰的多吡啶钌配合物，其特征在于：所述配合物具有式I所示的结构：

其中选自以下任意结构：

2.根据权利要求1所述配合物，其特征在于：所述配合物的结构具有以下Ru1～Ru3任一结构：

3.根据权利要求1所述配合物，其特征在于：所述配合物的制备方法包括以下步骤：

(1)将式I-a对羟基苯甲醛与式I-b所示N-(4-溴丁基)邻苯二甲酰亚胺在催化剂的作用下进行反应，得到式I-c所示4-(4-(1,3-二氧异吲哚-2-基)丁氧基)苯甲醛；

(2)式I-c与式I-d所示[1,10]-菲罗啉二酮在碱性条件下进行反应，得到式I-e所示2-(4-(4-(1H-咪唑并[4,5-f][1,10]菲咯啉-2-基)苯氧基)丁基)二氢吲哚-1,3-二酮；

(3)式I-e脱保护得到式I-f；

(4)式I-f与式I-g所示甘草次酸在偶联剂作用下进行反应，得到配体式I-h，反应完成后，用二氯甲烷/甲醇进行提纯；

(5)将式I-h与式-i～式I-k进行反应，得到式I所示[Ru(N-N)₂L](PF₆)₂，反应完成后，在体系中加入过量的饱和KPF₆溶液，收集析出的固体，然后硅胶柱乙腈/KNO₃水溶液提纯。

4.根据权利要求3所述制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中的催化剂为K₂CO₃，反应的温度为80～85℃，时间为12h。

5.根据权利要求3所述制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中的碱是CH₃COONH₄，反应温度为120℃，时间为3h。

6.根据权利要求3所述制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中的反应温度为80～85℃，时间为12h。

7.根据权利要求3所述制备方法，其特征在于：所述步骤(4)中的偶联试剂选为六氟磷酸苯并三唑-1-基-氧基三吡咯烷基磷，N,N-二异丙基乙胺，反应温度为40℃，溶剂为N,N-二甲基甲酰胺。

8.根据权利要求3所述制备方法，其特征在于：所述步骤(5)中的反应所选溶剂为体积比为3:1的乙醇/水溶液，温度为75℃，时间为24h。

9.根据权利要求1～8任一所述的甘草次酸修饰的多吡啶钌配合物，其特征在于：所述甘草次酸修饰多吡啶钌配合物应用于抗菌药物的制备。

10.根据权利要求1～8任一所述的甘草次酸修饰的多吡啶钌配合物，其特征在于：所述甘草次酸修饰多吡啶钌配合物在制备能够抑制金黄色葡萄球菌生长、生物膜形成以及溶血素分泌的抗菌药物中的应用。