[发明专利]供应设备

说明书

一种供应设备，系以目标物作为遮蔽装置之部分构件，并以供应装置将目标材喷涂至该目标物上时，使该供应装置于喷射过程中不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境。

技术领域

本发明系有关一种供应设备，尤指一种用于供料之供应设备。

背景技术

于射出成型制程中，常藉由模具制作所需之产品，且于进行射出成型作业前，会先涂布离形层于模具中，以利于后续脱模作业。

习知涂布离形层之作业中，如图1所示，系藉由供应设备1之喷嘴10朝供应方向F喷射离形剂至该模具之模件1a,1b上。

然而，习知供应设备1中，该喷嘴10于喷射过程中容易将离形剂喷散至该模件1a,1b之侧面1c之周围，造成该供应设备1周围之机组污损，甚至使该供应设备1周围之机组故障，导致产品不良。

再者，习知供应设备1仅能朝向单一方向喷射离形剂，待其中一模件1a 形成离形层后，再将该喷嘴10转向(如旋转方向R)以喷涂另一模件1b，因而喷涂时程冗长，致使制作产物之时间增加，导致射出成型制程所制作之产物之成本提高。

又，藉由转动单一喷嘴10以将离形剂喷涂于该些模件1a,1b之方式，不易将该离形剂均匀喷涂于该些模件1a,1b上，致使该离形层往往无法有效分离该射出成型制程所制作之产物。

因此，如何克服上述习知技术之问题，实已成为目前业界亟待克服之难题。

发明内容

鉴于上述习知技术之种种缺失，本发明提供一种供应设备，系包括：遮蔽装置，系包含箱体，其中，该箱体系配置有目标物；支撑结构；第一供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第一供应方向喷涂至该目标物上；以及第二供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第二供应方向喷涂至该目标物上，且该第一供应装置之第一供应方向系不同于该第二供应装置之第二供应方向，以于该第一供应装置与第二供应装置将该目标材喷涂至该目标物上时，不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境。

前述之供应设备中，复包括设于该支撑结构上之一上下位移装置及一左右位移装置，该第一供应装置及第二供应装置设置于该上下位移装置之下端，以令该上下位移装置及该左右位移装置驱动该第一供应装置及第二供应装置。例如，该遮蔽装置系包含有两挡件，其分别具有一凹槽，以于该两挡件靠紧时，使该两挡件之凹槽形成一容置空间，以令该容置空间容置该上下位移装置及该左右位移装置。进一步，该遮蔽装置复包含有一用以设置该两挡件之载台，且该载台上系设有一架体及设于该架体上之轨道结构，以令该两挡件设于该轨道结构上，使该两挡件之至少其中一者藉由该轨道结构位移。较佳者，该架体上于对应该两挡件下方处系于该目标物前后方处分别配置有一侧板，以令该侧板与该目标物形成半密闭式箱体。

前述之供应设备中，该第一供应装置之第一供应方向系相反于该第二供应装置之第二供应方向，且该第一供应装置与该第二供应装置系配置于该支撑结构之相对两侧。

前述之供应设备中，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有至少一个喷嘴。例如，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有42个喷嘴。

前述之供应设备中，复包括一操控该遮蔽装置、第一供应装置及第二供应装置运作之控制座。

前述之供应设备中，该遮蔽装置复包含有至少一用以固设该目标物之墙板，且该墙板系带动该目标物位移。

由上可知，本发明之供应设备中，主要藉由该目标物作为该遮蔽装置之箱体之部分构件，以于喷涂目标材时，该第一供应装置及第二供应装置于喷射过程中不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境，故相较于习知技术，本发明之供应设备不会造成污染，以避免其它机组受损而导致产品不良之问题。