[发明专利]供应设备

权利要求书

1.一种供应设备，系包括：

遮蔽装置，系包含箱体，其中，该箱体系配置有目标物；

支撑结构；

第一供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第一供应方向喷涂至该目标物上；以及

第二供应装置，系设于该支撑结构上，以将该目标材朝第二供应方向喷涂至该目标物上，且该第一供应装置之第一供应方向系不同于该第二供应装置之第二供应方向，以于该第一供应装置与第二供应装置将该目标材喷涂至该目标物上时，不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境。

2.如权利要求1所述之供应设备，复包括设于该支撑结构上之一上下位移装置及一左右位移装置，且该第一供应装置及第二供应装置设置于该上下位移装置之下端，以供该上下位移装置及该左右位移装置驱动该第一供应装置及第二供应装置。

3.如权利要求2所述之供应设备，其中，该遮蔽装置系包含有两挡件，其分别具有一凹槽，以于该两挡件靠紧时，使该两挡件之凹槽形成一容置空间，以令该容置空间容置该上下位移装置及该左右位移装置。

4.如权利要求3所述之供应设备，其中，该遮蔽装置复包含有一用以设置该两挡件之载台，且该载台上系设有一架体及设于该架体上之轨道结构，以令该两挡件设于该轨道结构上，使该两挡件之至少其中一者藉由该轨道结构位移。

5.如权利要求4所述之供应设备，其中，该架体上于对应该两挡件下方处系于该目标物前后方处分别配置有一侧板，以令该侧板与该目标物形成半密闭式箱体。

6.如权利要求5所述之供应设备，其中，该箱体之其中一侧板为活动式，以藉由该侧板拆取该目标物。

7.如权利要求1所述之供应设备，其中，该第一供应装置之第一供应方向系相反于该第二供应装置之第二供应方向，且该第一供应装置与该第二供应装置系配置于该支撑结构之相对两侧。

8.如权利要求1所述之供应设备，其中，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有至少一个喷嘴。

9.如权利要求1所述之供应设备，其中，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有42个喷嘴。

10.如权利要求1所述之供应设备，复包括一操控该遮蔽装置、第一供应装置及第二供应装置运作之控制座。

11.如权利要求1所述之供应设备，其中，该遮蔽装置复包含有至少一用以固设该目标物之墙板，且该墙板系带动该目标物位移。