[发明专利]基于单色光参考线发射器的投影方法、系统及存储介质有效
申请号: | 202110337637.X | 申请日: | 2020-12-03 |
公开(公告)号: | CN113141491B | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 李志;金凌琳;林绵发 | 申请(专利权)人: | 深圳市当智科技有限公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
代理公司: | 深圳市辰为知识产权代理事务所(普通合伙) 44719 | 代理人: | 唐文波 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 单色光 参考 发射器 投影 方法 系统 存储 介质 | ||
1.一种基于单色光参考线发射器的投影方法,其特征在于,所述基于单色光参考线发射器的投影方法应用于宽屏投影系统,所述宽屏投影系统包括两个光机、摄像头和单色光参考线发射器,在所述光机和摄像头分别设置距离传感器,在所述单色光参考线发射器上设置陀螺仪传感器,在摄像头拍摄方向上设置投影面;
所述基于单色光参考线发射器的投影方法包括:
当检测到光机上电时,基于所述距离传感器,获取一个光机至投影面的第一距离,另一个光机至投影面的第二距离和摄像头至投影面的第三距离,确定经过摄像头所在位置且垂直于两个光机连线的垂直平面的第一法线;
比较第一距离与第二距离,来推导判断投影面与两个光机连线所在的垂直平面是否平行,进而判断投影系统是否处于平面正投状态;若投影系统处于平面正投状态,则根据第三距离确定单色光参考线发射器待投射参考矩形框的框体尺寸;
基于陀螺仪传感器检测到单色光参考线发射器处于水平时,控制单色光参考线发射器向投影面投射所述框体尺寸的参考矩形框;控制两个光机向投影面分别投影拼接校准图像,检测两个所述拼接校准图像的初始位置是否均处于所述参考矩形框内;
若所述初始位置均不处于参考矩形框内,则获取第一法线的空间坐标,控制单色光参考线发射器以第一法线的空间坐标向投影面投射拼接边界参考线;调整光机的投射角度,直至两个拼接校准图像在所述拼接边界参考线处无缝拼接;
先对投影的画面帧较小的光机A进行梯形校正,得到较小梯形校正图像,以此较小梯形校正图像靠近另一光机B侧的纵向边界为对称轴,获取较小梯形校正图像经所述对称轴映射的对称映射区域,根据对称映射区域的矩形顶点坐标,对光机B投影的较大画面帧进行梯形校正,从而得到与较小梯形校正图像尺寸相同的另一梯形校正图像,两个梯形校正图像无缝拼接,进而控制两个光机逐步向所述投影面投影待显示图像的所有图像帧。
2.如权利要求1所述的基于单色光参考线发射器的投影方法,其特征在于,所述调整光机的投射角度,直至两个拼接校准图像在所述拼接边界参考线处无缝拼接的步骤包括:
以预设初始转向调整两个光机的投射角度,并实时分别检测两个所述拼接校准图像相对两纵向边界与拼接边界参考线的边界间距;
反转所述边界间距逐渐增大的第一光机的预设初始转向,以反转后转向调整第一光机的投射角度,直至所述相对的两纵向边界中第一光机的拼接校准图像纵向边界与拼接边界参考线无缝拼接;
保持边界间距逐渐减小的第二光机的预设初始转向,调整第二光机的投射角度,直至所述相对的两纵向边界中第二光机的拼接校准图像纵向边界与拼接边界参考线无缝拼接。
3.如权利要求2所述的基于单色光参考线发射器的投影方法,其特征在于,所述检测两个所述拼接校准图像的初始位置是否均处于所述参考矩形框内的步骤之后,还包括:
若所述初始位置均处于参考矩形框内,检测两个拼接校准图像是否存在重叠区域;
若存在重叠区域,调大两光机出光方向夹角;若不存在重叠区域,调小两光机出光方向夹角;
在所述夹角调整过程中,基于图像边缘识别算法,判断所述拼接校准图像相对两纵向边界是否重合;若两所述纵向边界重合,则判定两个拼接校准图像无缝拼接,停止两个光机转动。
4.如权利要求3所述的基于单色光参考线发射器的投影方法,其特征在于,所述基于单色光参考线发射器的投影方法还包括:
在检测到所述拼接校准图像相对两纵向边界重合之后,摄像头再次采集边界重合之后的两个拼接校准图像,然后检测由摄像头采集的两个拼接校准图像无缝拼接后的总体图像的横向像素点数和纵向像素点数;
根据所述横向像素点数和纵向像素点数,计算获取所述总体图像相对于实际分辨率的近似分辨率;
比较所述近似分辨率与拼接校准图像的预设分辨率;
若所述近似分辨率与预设分辨率相差在阈值之内,则输出宽屏投影完整提示;
若所述近似分辨率与预设分辨率相差超过阈值,则通过语音或者投影界面提示用户调整投影仪位置或者投影面位置、再重新进行拼接校准,直至近似分辨率与预设分辨率相差在阈值之内。
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