[发明专利]一种反射镜自动耦合装置

说明书

本发明提供一种反射镜自动耦合装置，涉及半导体激光器技术领域。该装置包括底座调整机构、耦合运动机构及料盘放置机构，底座调整机构用于放置待耦合的半导体激光器半成品，料盘放置机构用于放置存放反射镜的料盘，耦合运动机构包括六轴调节架及抽真空组件，抽真空组件包括真空吸嘴，真空吸嘴安装于六轴调节架，六轴调节架用于带动真空吸嘴将反射镜移送至底座调整机构处进行芯片光路耦合。本发明能实现反射镜的自动上料，六轴调节架调整反射镜位置使芯片出光经反射镜更多通过光纤输出；借由底座调整机构切换不同芯片通道，逐一找到各芯片光路中反射镜的最佳耦合位置，减少人工参与，降低生产成本，提高耦合效率并确保产品获得良好的一致性。

技术领域

本发明涉及半导体激光器技术领域，尤其涉及一种反射镜自动耦合装置。

背景技术

现有的反射镜耦合技术多为手动操作。例如手动使用真空吸嘴吸取反射镜，手动加电，手动操作调节架耦合至最大功率，手动调节寻找光临界点，手动操作点胶机点胶等，耦合下一路反射镜时，也需要手动调整底座位置。

反射镜耦合操作流程较为复杂，要求操作人员具有相对熟练的技术，大规模扩产需要大批熟练操作员，因制造质量受人为因素影响，无法保证产品的一致性。

发明内容

本发明提供一种反射镜自动耦合装置，用以解决现有技术中反射镜耦合依赖人工操作效率低且难以保证产品一致性的缺陷。

本发明提供一种反射镜自动耦合装置，包括底座调整机构、耦合运动机构及料盘放置机构，所述底座调整机构用于放置待耦合的半导体激光器半成品，所述料盘放置机构用于放置存放反射镜的料盘，所述耦合运动机构包括六轴调节架及抽真空组件，所述抽真空组件包括真空吸嘴，所述真空吸嘴安装于所述六轴调节架，所述六轴调节架用于带动所述真空吸嘴将所述反射镜移送至所述底座调整机构进行芯片光路耦合。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述底座调整机构包括工作台、水平滑台及升级滑台，所述升降滑台安装于所述水平滑台上，所述工作台固定安装于所述升降滑台的顶部，所述工作台设有用于放置半导体激光器基座的工作区，所述工作台对应于所述工作区构造有冷却通道，所述工作台具有用于限定半导体激光器基座位置的限位结构。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述限位结构包括设置在工作区两个相邻侧边处的挡边及安装于所述工作区一侧的固定夹具，所述固定夹具用于抵推半导体激光器基座使其与所述挡边抵触。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述反射镜自动耦合装置还包括点胶机构，所述点胶机构包括点胶筒及升降组件，所述升降组件固定安装于所述耦合运动机构，所述点胶筒安装于所述升降组件的运动端，所述工作台构造有定位孔，所述定位孔内安装有用于定位所述点胶筒位置的内窥镜。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述耦合运动机构包括六轴调节架及抽真空组件，所述抽真空组件包括真空吸嘴，所述真空吸嘴安装于所述六轴调节架的运动端，所述真空吸嘴在所述六轴调节架的作用下吸取所述料盘放置机构中存放的反射镜。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述真空吸嘴的吸取端包括第一端面和第二端面，所述第一端面与所述第二端面垂直，其中，所述第一端面用于吸合反射镜远离料盘的一端端面，所述第二端面用于吸合反射镜的玻璃面

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述料盘放置机构包括料盘支架及固定安装于所述料盘支架顶部的料盘平台，所述料盘平台设有料盘放置位，所述料盘放置位用于限定放置反射镜的料盘位置。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述料盘设有通槽，所述通槽的槽底设有若干凸棱，相邻两个所述凸棱与所述通槽的槽壁共同形成用于容纳反射镜的存放空间。

根据本发明提供的一种反射镜自动耦合装置，所述通槽的两个槽壁分别设有若干沿所述通槽的槽深方向延伸的隔离条，相邻两个所述隔离条之间的槽壁向所述通槽的外部凹陷，所述隔离条与所述凸棱一一对应设置。