[发明专利]一种陶瓷抛光装置及其抛光方法

说明书

本发明公开了一种陶瓷抛光装置及其抛光方法，所述装置包括：抛光盆，用于盛装抛光溶液；抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；转动轴，设置于所述抛光盆的底部，用于驱动所述抛光盆和所述抛光模转动而使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理并且使得所述抛光溶液流动，能够有效地提高陶瓷的去除率。

技术领域

本发明涉及镜片加工领域，特别涉及一种陶瓷抛光装置及其抛光方法。

背景技术

陶瓷作为一种优良的反射镜材料，已经逐渐被应用到红外光学系统中；而由于陶瓷本身的莫氏硬度比较大，这就决定了它的精细加工工序很繁琐，精度加工很困难，由于效率太低最终导致产能产量严重不足，不能大规模化量产。目前对陶瓷的加工一般采用莫氏硬度更大、速率更快的金刚石研磨液进行研磨来达到一定的厚度，最后用传统的CMP抛光液精抛到要求的表面状态。然而，目前的陶瓷抛光方法存在着材料去除率较低的问题。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种陶瓷抛光装置，能够有效地提高陶瓷的去除率。

本发明还提出一种基于上述陶瓷抛光装置的陶瓷抛光方法。

根据本发明第一方面实施例的陶瓷抛光装置，包括：

抛光盆，用于盛装抛光溶液；

抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；

搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；

转动轴，设置于所述抛光盆的底部，用于驱动所述抛光盆和所述抛光模转动而使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理并且使得所述抛光溶液流动。

根据本发明实施例的陶瓷抛光装置，至少具有如下有益效果：结合抛光模的机械磨削以及抛光溶液的化学作用，提高了陶瓷材料的去除率；并且在抛光过程中，还可以利用搅拌棒对抛光溶液进行搅拌处理，使得混合磨料能够保持悬浮状态，从而更加有利于陶瓷的抛光处理。

根据本发明的一些实施例，所述搅拌棒设置于所述抛光盆中。

根据本发明的一些实施例，所述抛光模包括不锈钢基底和防腐蚀层，所述防腐蚀层包围于所述不锈钢基底的外部。

根据本发明的一些实施例，所述防腐蚀层由聚氨酯制成。

根据本发明的一些实施例，所述聚氨酯的表面设置有网格状凹槽。

根据本发明第二方面实施例的陶瓷抛光方法，基于本发明第一方面的陶瓷抛光装置，所述方法包括：

将待加工陶瓷放置于所述抛光模上；

在所述抛光盆中加入所述抛光溶液并且使得所述抛光溶液沉没待加工陶瓷；

利用所述转动轴带动所述抛光盆和所述抛光模转动，使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理，并且使得所述抛光溶液流动；

利用所述搅拌棒搅拌所述抛光溶液。

根据本发明实施例的陶瓷抛光方法，至少具有如下有益效果：结合抛光模的机械磨削以及抛光溶液的化学作用，提高了陶瓷材料的去除率；并且在抛光过程中，还可以利用搅拌棒对抛光溶液进行搅拌处理，使得混合磨料能够保持悬浮状态，从而更加有利于陶瓷的抛光处理。

根据本发明的一些实施例，所述抛光溶液包括高纯水、三氧化二铝、碳酸钠、碳酸钙和悬浮剂。

根据本发明的一些实施例，所述抛光模包括不锈钢基底和防腐蚀层，所述防腐蚀层包围于所述不锈钢基底的外部。

根据本发明的一些实施例，所述防腐蚀层由聚氨酯制成。