[发明专利]基于面元分布的动态匹配反射系数缩比测量方法和装置

说明书

本申请涉及一种基于面元分布的动态匹配反射系数缩比测量方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：通过获取金属缩比模型的金属缩比模型RCS测量值和涂覆缩比模型的涂覆缩比模型RCS测量值，根据金属缩比模型RCS测量值、涂覆缩比模型RCS测量值，以及涂覆缩比模型的涂覆材料的第一反射系数信息，得到金属缩比模型在入射波角度下的RCS面元分布信息；获取目标原型涂覆材料的第二反射系数信息，根据第二反射系数信息、面元分布信息和预设的几何缩比因子，得到目标原型的RCS值。本发明有利于提高反演精度，扩大了缩比测量的适用范围，为太赫兹频段缩比测量的材料色散问题提供了有效的解决方法。

技术领域

本申请涉及雷达技术领域，特别是涉及一种面元分布的动态匹配反射系数缩比测量方法、装置、计算机设备和存储介质。

背景技术

近年来，随着对超大尺寸目标缩比测量需求的增加，对缩比测量的频段和缩比反演方法提出了更高的要求。为了实现大缩比因子的缩比测量，缩比频率上升到太赫兹频段，材料的色散特性不容忽略，经典电磁相似率的条件无法满足，如何将太赫兹频段的缩比测量结果反演得到目标原型的RCS成为亟待解决的问题。

针对缩比测量中的材料色散问题，现有的解决方法主要包括：放宽相似法则法、待定物理缩比因子法、寻找替代材料法。现有方法中，寻找替代材料法涉及到替代材料的选取或者合成，实现起来周期长、成功率不高，比较困难；放宽相似法则法的有效性局限于高频、远场和后向散射，且用于复杂目标时误差明显增大；待定物理缩比因子法用于反射系数变化趋势相似的两种材料效果较好，当两种材料的反射系数变化趋势不同时，该方法出现较大误差。放宽相似法则法和待定物理缩比因子法的缺点在于没有充分考虑涂覆材料在诸多影响因素下出现的复杂变化趋势，导致缩比反演方法失效。现有方法忽略了材料反射系数的诸多影响因素(如厚度、损耗正切、角度等)对缩比关系的影响，对反射系数变化复杂的材料涂覆目标以及结构复杂的目标缩比反演精度低。

发明内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够提高由缩比模型RCS测量值反演出目标原型RCS值的反演精度的基于面元分布的动态匹配反射系数缩比测量方法、装置、计算机设备和存储介质。

一种基于面元分布的动态匹配反射系数缩比测量方法，所述方法包括：

获取金属缩比模型的金属缩比模型RCS测量值和涂覆缩比模型的涂覆缩比模型RCS测量值；所述涂覆缩比模型是对所述金属缩比模型的表面进行了材料涂覆，所述涂覆缩比模型可为一个或多个，每个所述涂覆缩比模型的涂覆材料不同；

根据雷达入射波与所述涂覆缩比模型面元法向形成的夹角获取所述涂覆材料的第一反射系数信息；

根据所述金属缩比模型RCS测量值、所述涂覆缩比模型RCS测量值，以及所述第一反射系数信息，得到所述金属缩比模型在所述入射波角度下的RCS面元分布信息；

获取目标原型涂覆材料的第二反射系数信息，根据所述第二反射系数信息、所述面元分布信息和预设的几何缩比因子，得到所述目标原型的RCS值。

在其中一个实施例中，还包括：获取金属缩比模型的金属缩比模型RCS测量值和涂覆缩比模型的涂覆缩比模型RCS测量值；所述涂覆缩比模型是对所述金属缩比模型的表面进行了材料涂覆，所述涂覆缩比模型的个数为面元的类别数减1，每个所述涂覆缩比模型的涂覆材料不同；所述面元根据法向方向分类，法向方向相同的面元为一类。

在其中一个实施例中，还包括：根据雷达入射波与所述涂覆缩比模型面元法向形成的夹角获取所述涂覆材料的第一反射系数信息；所述第一反射系数信息随着雷达入射波与所述涂覆缩比模型的不同面元形成的夹角大小变化而变化。

在其中一个实施例中，还包括：获取所述金属缩比模型RCS测量值、所述涂覆缩比模型RCS测量值，以及所述第一反射系数信息；

将所述金属缩比模型RCS测量值、所述涂覆缩比模型RCS测量值和所述第一反射系数信息代入以下公式：