[发明专利]离型膜和其制造方法

说明书

公开了一种离型膜及其制造方法。在所述离型膜中，基材和离型层可以依次位置，所述离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至3000％的范围。所述离型膜可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且可以改善残余粘着率。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年3月27日提交的韩国专利申请No.10-2020-0037795的优先权和权益，其通过引用合并于此用于所有目的，如同在此完全阐述一样。

技术领域

涉及一种离型膜和其制造方法。

背景技术

通常，由于硅基粘合剂具有耐热性、耐候性、柔韧性和耐化学性等，因此其最近不仅用于一般的工业用粘合胶带，并且还用于诸如手机、半导体和显示器等的IT领域的广泛用途。

但是，由于使用硅基粘合剂的硅基离型膜完全结合于粘合剂上而不剥离，此通常使用涂覆有包括氟基树脂的离型剂的膜。由于包括所述氟基树脂的离型剂具有低表面能且不能与普通有机溶剂充分混合导致可能引起涂覆不良，因此必须使用氟基溶剂，并且在包括氟基溶剂和氟基树脂的离型剂的情况下，因为相比于普通的硅基离型剂贵数十倍，因此在生产性和经济性方面存在问题。

此外，包括氟基树脂的离型剂除了具有在普通的硅基离型膜中的问题即在硬化后残留的硬化剂引起剥离力随时间变化之外，更具有以下的问题：在加工成卷状态并缠绕时，随着时间的流逝，施加在涂覆表面的压力使表面氟基沉降至涂覆层下，导致剥离力变化。

为了解决该问题，需要可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且改善残余粘着率的离型膜和其制造方法。

发明内容

一方面提供可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且改善残余粘着率的离型膜。

另一方面提供所述离型膜的制造方法。

根据一方面，

提供一种离型膜，其中，基材和离型层依次位置，

所述离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，

所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至 3000％的范围。

所述氟化聚硅氧烷可以包括由下化学式1表示的有机聚硅氧烷：

化学式1

化学式2

化学式3

其中，在所述化学式1中，

R₁可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的链烯基；

R₂可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基、取代或未取代的C2至C10的链烯基或氢基；

R₃可以为由所述式化学式2表示的氟化烷基、由所述化学式3表示的氟化醚基或其组合；

n可以为1至8的整数，m可以为1至5的整数；

p可以为1至5的整数，q可以为0或1，r可以为0、1或2，或v可以为1至5的整数；

A可以为氧原子或单键；