[发明专利]离型膜和其制造方法

权利要求书

1.一种离型膜，其中，基材和离型层依次位置，

所述离型层为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，

所述有机或无机粒子的平均粒径具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至3000％的范围。

2.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述氟化聚硅氧烷包括由下化学式1表示的有机聚硅氧烷：

化学式1

化学式2

化学式3

其中，在所述化学式1中，

R₁为取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的链烯基；

R₂为取代或未取代的C1至C10的一价烃基、取代或未取代的C2至C10的链烯基或氢基；

R₃为由所述式化学式2表示的氟化烷基、由所述化学式3表示的氟化醚基或其组合；

n为1至8的整数，m为1至5的整数；

p为1至5的整数，q为0或1，r为0、1或2，v为1至5的整数；

A为氧原子或单键；

x、y和z分别为大于或等于1的整数；

*为与相邻原子的键合位置；

然而，R1和R2中的至少一个是取代或未取代的C2至C10的链烯基。

3.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述有机或无机粒子为选自天然矿物；1族至4族、11族至12族、14族、16族至18族元素的氧化物、氢氧化物、硫化物、氮化物或卤化物；碳酸盐、硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐、亚磷酸盐、羧酸盐、硅酸盐、钛酸盐、硼酸盐或其水合物；以及其复合化合物的无机粒子。

4.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述有机或无机粒子为选自氟基树脂、三聚氰胺基树脂、苯乙烯基树脂、丙烯酸基树脂、硅基树脂、苯乙烯-二乙烯基苯基共聚物树脂以及与这些树脂交联的聚合物或共聚物的有机粒子。

5.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述离形层进一步包括含氢聚硅氧烷和酸催化剂中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述离型层硬化膜的厚度为0.03μm至3μm。

7.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

在所述离型层的XPS表面分析时，根据下式1的F/Si原子比为1.5至3.5：

式1

F/Si原子比＝[离型层表面的氟含量(原子％)/离型层表面的硅含量(原子％)] 。

8.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述离型层的根据下式2的剥离力变化率等于或小于30％：

式2

剥离力变化率(％)＝{(30天后的剥离力-初始剥离力)/(初始剥离力)}×100 。

9.根据权利要求1所述的离型膜，其中，

所述离型膜的残余粘着率大于或等于90％。

10.一种制造离型膜的方法，包括：

准备基材；以及

通过在所述基材的至少一表面上涂覆包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的用于形成离型层的组合物并进行干燥，从而形成离型层，

其中，基于总固形份，所述有机或无机粒子的含量为0.5重量％至10重量％。