[发明专利]一种无含硫气体排放的低成本制备硅化钼的方法有效
| 申请号： | 202110321383.2 | 申请日： | 2021-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN113086985B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 张国华;常贺强 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | C01B33/06 | 分类号： | C01B33/06 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 朱艳华 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 无含硫 气体 排放 低成本 制备 硅化钼 方法 | ||
1.一种无含硫气体排放的低成本制备硅化钼的方法，其特征在于，将钼源和还原剂按照一定比例混匀并压制成型作为内层样品，其次在内层样品表面覆盖一层一定量的脱硫剂，并在高温1100-1600oC惰性气氛条件下反应0.5-10h，当样品反应完成并冷却至室温后剥离外部脱硫层，即得到硅化钼；
所述的钼源和还原剂的配料比为钼源中MoS2的实际含量与还原剂中Si的实际含量的摩尔比是1：2.33-1：4；所述脱硫剂的用量为钼源中MoS2中的硫元素全部以CaS形式被固定时所需理论量的1-4倍，其理论量是MoS2与CaO的摩尔比1：2。
2.根据权利要求 1所述的一种无含硫气体排放的低成本制备硅化钼的方法，其特征在于，所述钼源为以MoS2为主要成分的物质，包括辉钼矿、钼精矿或二硫化钼试剂；所述还原剂以Si为主要成分的物质。
3.根据权利要求 1所述的一种无含硫气体排放的低成本制备硅化钼的方法，其特征在于，所述剥离外部脱硫层包括脱硫层的破碎和分离两步。
4.根据权利要求 1或3所述的一种无含硫气体排放的低成本制备硅化钼的方法，其特征在于，脱硫剂在高温下的脱硫反应方程式如下：
2CaO+2SiS＝2CaS+Si+SiO2 (1)
2CaO+SiS2＝2CaS+SiO2 (2)。
5.根据权利要求 1所述的一种无含硫气体排放的低成本制备硅化钼的方法，其特征在于，所述得到的硅化钼为MoSi2、Mo5Si3或Mo3Si。
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