[发明专利]一种光栅结构抗菌表面的检测方法

说明书

本发明涉及医疗器械技术领域，尤其是涉及一种光栅结构抗菌表面的检测方法，该检测方法通过光栅结构抗菌表面在紫外分光光度计200～800nm入射波长条件下的光学特性，通过比较待检测光栅结构抗菌表面的反射率与已知具有不完整光栅结构的光栅结构抗菌表面的反射率和已知受污染的具有完整光栅结构的光栅结构抗菌表面的反射率，从而判断待检测光栅结构抗菌表面的瑕疵度和污染度。

技术领域

本发明涉及医疗器械技术领域，尤其是涉及一种光栅结构抗菌表面的检测方法。

背景技术

手术过程中难以避免的细菌污染，临床治疗过程中器械污染是导致感染的主要原因之一。对于植入手术来说，术后通常会发生植入体附近组织感染，重者会导致植入手术失败。目前，采用具有抗菌功能的医疗器械能有效降低临床治疗过程中的感染风险。其中，多项研究表明，在合金表面加工出亚微米尺度光栅结构可有效降低材料表面的细菌粘附率。

然而，当光栅结构抗菌表面出现结构瑕疵时，其在使用过程中仍容易粘附细菌，而现有技术仅是通过扫描电镜放大观察，众所周知扫描电镜操作复杂且设备昂贵，因此光栅结构抗菌表面并不便于快速检测出来，导致无法确保光栅结构抗菌表面的使用安全性。或是，光栅结构抗菌表面使用前是否受到污染，其也无法快速地检测出来，同样无法确保使用的安全性，造成了手术风险。

发明内容

本发明的目的在于避免现有技术中的不足之处而提供一种光栅结构抗菌表面的检测方法，该方法能快速方便地检测出光栅结构抗菌表面的是否有缺陷或是否受污染。

本发明的目的通过以下技术方案实现：

提供一种光栅结构抗菌表面的检测方法，包括以下步骤，

S1：预处理合金表面，制得光栅结构抗菌表面；

S2：获取已知具有不完整光栅结构的光栅结构抗菌表面，该表面为第一表面；和获取已知受污染的具有完整光栅结构的光栅结构抗菌表面，该表面为第二表面；采用紫外分光光度计在200～800nm的入射波长条件下分别表征第一表面的反射特性和第二表面的反射特性，制得第一表面的第一反射特性图和第二表面的第二反射特性图；

S3：采用紫外分光光度计在200～800nm的入射波长条件下，表征S1制得的光栅结构抗菌表面的反射特性，制得待比较反射特性图；

S4：将S3制得的待比较反射特性图与S2制得的第一反射特性图单独对比，当待比较反射特性图的反射率均低于第一反射特性图的反射率时，则S1制得的光栅结构抗菌表面为完整光栅结构表面，反之则是有缺陷的不完整光栅结构表面；将S3制得的待比较反射特性图与S2制得的第二反射特性图单独对比，当待比较反射特性图的反射率均低于第二反射特性图的反射率时，则S1制得的光栅结构抗菌表面没有受污染，反之则受污染。

进一步地，所述S1包括以下步骤：

S11：对合金表面进行抛光；

S12：采用激光辐射S11抛光后的合金表面，制得合金光栅结构表面；

S13：先采用无水乙醇超声清洗S12制得的合金光栅结构表面，然后采用去离子水对合金光栅结构表面进行清洗，制得光栅结构抗菌表面。

进一步地，所述S11中，抛光后的合金表面的粗糙度Ra0.1μm。

进一步地，采用0.25～0.5μm粒度的金刚石抛光磨粒，然后在1.5～5m/s线速度，0.3～2.3MPa压强条件下对合金表面进行抛光，抛光时间是30min。

进一步地，所述S12中，采用超快激光单次或多次辐射抛光后的合金表面，所述超快激光的波长为200～1200nm，脉宽是10ps，频率是1～100kHz，功率是0.1～50W，扫描速度是10～2000mm/s。