[发明专利]一种光栅结构抗菌表面的检测方法

权利要求书

1.一种光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：包括以下步骤，

S1：预处理合金表面，制得光栅结构抗菌表面；

S2：获取已知具有不完整光栅结构的光栅结构抗菌表面，该表面为第一表面；和获取已知受污染的具有完整光栅结构的光栅结构抗菌表面，该表面为第二表面；采用紫外分光光度计在200～800nm的入射波长条件下分别表征第一表面的反射特性和第二表面的反射特性，制得第一表面的第一反射特性图和第二表面的第二反射特性图；

S3：采用紫外分光光度计在200～800nm的入射波长条件下，表征S1制得的光栅结构抗菌表面的反射特性，制得待比较反射特性图；

S4：将S3制得的待比较反射特性图与S2制得的第一反射特性图单独对比，当待比较反射特性图的反射率均低于第一反射特性图的反射率时，则S1制得的光栅结构抗菌表面为完整光栅结构表面，反之则是有缺陷的不完整光栅结构表面；将S3制得的待比较反射特性图与S2制得的第二反射特性图单独对比，当待比较反射特性图的反射率均低于第二反射特性图的反射率时，则S1制得的光栅结构抗菌表面没有受污染，反之则受污染。

2.根据权利要求1所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：所述S1包括以下步骤：

S11：对合金表面进行抛光；

S12：采用激光辐射S11抛光后的合金表面，制得合金光栅结构表面；

S13：先采用无水乙醇超声清洗S12制得的合金光栅结构表面，然后采用去离子水对合金光栅结构表面进行清洗，制得光栅结构抗菌表面。

3.根据权利要求2所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：所述S11中，抛光后的合金表面的粗糙度Ra0.1μm。

4.根据权利要求3所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：采用0.25～0.5μm粒度的金刚石抛光磨粒，然后在1.5～5m/s线速度，0.3～2.3MPa压强条件下对合金表面进行抛光，抛光时间是30min。

5.根据权利要求2所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：所述S12中，采用超快激光单次或多次辐射抛光后的合金表面，所述超快激光的波长为200～1200nm，脉宽是10ps，频率是1～100kHz，功率是0.1～50W，扫描速度是10～2000mm/s。

6.根据权利要求2所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：所述S13中，乙醇的清洗时间是5～20min，去离子水的清洗时间是5～20min。

7.根据权利要求1所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：所述S2中，所述第二表面通过扫描电子显微镜观察从而选择并获得具有完整光栅结构的第二表面。

8.根据权利要求1所述的光栅结构抗菌表面的检测方法，其特征在于：所述合金是非晶合金、不锈钢合金或钛合金。