[发明专利]光掩模坯料及光掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法

说明书

本发明的目的在于提供可以制造遮光膜图案的精度优异、并且具有通过曝光转印图案时可以实现高图案精度的光学特性的光掩模的光掩模坯料。为此，本发明的光掩模坯料是在制作显示装置制造用光掩模时使用的光掩模坯料，其具有：透明基板、和设置于透明基板上的遮光膜，遮光膜从透明基板侧起具备第1反射抑制层、遮光层及第2反射抑制层，第1反射抑制层从透明基板侧起依次具备氧相对于氮的比例相对较少的第1低度氧化铬层、和氧相对于氮的比例相对较多的第1高度氧化铬层，第2反射抑制层从透明基板侧起依次具备氧相对于氮的比例相对较少的第2低度氧化铬层、和氧相对于氮的比例相对较多的第2高度氧化铬层。

技术领域

本发明涉及光掩模坯料及光掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法。

背景技术

近年来，对于以LCD(液晶显示器，Liquid Crystal Display)为代表的FPD(平板显示器，Flat Panel Display)等显示装置而言，不仅正在快速进行大画面化、宽视角化，而且正在快速进行高精细化、高速显示化。为了该高精细化、高速显示化，需要的要素之一是制作微细且尺寸精度高的元件、布线等电子电路图案。该显示装置用电子电路的图案化大多使用光刻法。因此，需要形成了微细且高精度图案的显示装置制造用的光掩模。

显示装置制造用的光掩模是由光掩模坯料制作的。光掩模坯料是在由合成石英玻璃等制成的透明基板上设置由对于曝光光不透明的材料形成的遮光膜而构成的。例如，如专利文献1所示地，在光掩模坯料、光掩模中，为了抑制在使用光掩模对被转印体的面板进行曝光时来自被转印体的反射光在光掩模表面被反射、并再次在被转印体发生再反射，在遮光膜的表背两面侧设置了防反射膜，光掩模坯料形成为了例如从透明基板侧起依次层叠有后面防反射膜、遮光膜、反射衰减膜及防反射膜而成的膜构成。光掩模是通过利用湿法蚀刻等对构成光掩模坯料的各膜进行图案化而形成给定的遮光膜图案来制作的。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：韩国授权专利第10-1473163号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，对于光掩模坯料而言，在通过蚀刻对遮光膜进行图案化而制成光掩模时，要求其遮光膜图案为高精度。这是因为，如果遮光膜图案的精度低，则在利用光掩模向被转印体转印遮光膜图案时，其转印图案的线宽、孔图案的尺寸会变得不均匀，导致形成于被转印体的图案的CD均匀性(CD Uniformity)受损。

另外，对于光掩模坯料而言，在使用光掩模对被转印体进行曝光处理时，还要求遮光膜表面的反射率低、以使得能够转印高精度的转印图案。如果形成于光掩模的遮光膜图案的表面的反射率高，则在进行曝光处理时，来自被转印体的反射光将反复进行与光掩模的遮光膜图案表面的反射，有时会由此产生所谓的耀斑(flare)。另外，例如，来自曝光装置的曝光光在光掩模的遮光膜图案的背面被反射的反射光再次被曝光装置(转印装置)的光学系统反射，会再次入射光掩模，有时会由此产生所谓的返回光。由于这些耀斑、返回光，有时会导致使用光掩模形成的转印图案的图案精度受损。

因此，本发明的目的在于提供具有下述光学特性的光掩模坯料，所述光学特性是在通过蚀刻对光掩模坯料中的遮光膜进行图案化而制作光掩模时可得到高精度的遮光膜图案、并且在使用光掩模对被转印体转印转印图案时被转印体的图案精度变高这样的光学特性。

解决问题的方法

(方案1)

一种光掩模坯料，其是制作显示装置制造用光掩模时使用的光掩模坯料，

该光掩模坯料具有：

由对于曝光光实质上透明的材料形成的透明基板、和

设置于上述透明基板上、且由对于上述曝光光实质上不透明的材料形成的遮光膜，