[发明专利]路径覆盖方法及装置、电子设备和存储介质

权利要求书

1.一种路径覆盖方法，其特征在于，应用于电子设备，所述方法包括：

根据原始场景地图，确定待覆盖路径集合，所述待覆盖路径集合中包括多条待覆盖路径；

在根据所述待覆盖路径集合执行覆盖处理的过程中，在检测到第一待覆盖路径上存在障碍物的情况下，对所述第一待覆盖路径重新进行路径规划，得到至少一条第二待覆盖路径，所述第一待覆盖路径包括位于所述电子设备的检测范围内的待覆盖路径；

根据所述第二待覆盖路径对所述待覆盖路径集合进行更新，得到更新后的待覆盖路径集合；

根据所述更新后的待覆盖路径集合执行覆盖处理。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，任一待覆盖路径包括第一端点和第二端点，所述在检测到第一待覆盖路径上存在障碍物的情况下，对所述第一待覆盖路径重新进行路径规划，得到至少一条第二待覆盖路径，包括：

在检测到所述第一待覆盖路径上存在障碍物的情况下，根据所述第一待覆盖路径的第一端点和第二端点及所述障碍物的位置，对所述第一待覆盖路径重新进行路径规划，得到至少一条第二待覆盖路径。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一待覆盖路径的第一端点和第二端点及所述障碍物的位置，对所述第一待覆盖路径重新进行路径规划，得到至少一条第二待覆盖路径，包括：

在所述障碍物的位置位于所述第一待覆盖路径的第一端点及第二端点之间的情况下，将所述第一待覆盖路径拆分成第二待覆盖路径L_m和第二待覆盖路径L_s，

其中，所述第二待覆盖路径L_m以所述第一待覆盖路径的第一端点为第一端点，以位于所述第一待覆盖路径的第一端点与所述障碍物之间且靠近所述障碍物的第一位置为第二端点，

所述第二待覆盖路径L_s以位于所述第一待覆盖路径的第二端点与所述障碍物之间且靠近所述障碍物的第二位置为第一端点，以所述第一待覆盖路径的第二端点为第二端点。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一待覆盖路径的第一端点和第二端点及所述障碍物的位置，对所述第一待覆盖路径重新进行路径规划，得到至少一条第二待覆盖路径，包括：

在所述障碍物的位置与所述第一待覆盖路径的第一端点重合的情况下，确定靠近所述障碍物且位于所述障碍物与所述第一待覆盖路径的第二端点之间的第三位置；

根据所述第三位置及所述第一待覆盖路径的第二端点得到第二待覆盖路径L_z，其中，所述第二待覆盖路径L_z以所述第三位置为第一端点，且以所述第一待覆盖路径的第二端点为第二端点；

或者，

在所述障碍物的位置与所述第一待覆盖路径的第二端点重合的情况下，确定靠近所述障碍物且位于所述障碍物与所述第一待覆盖路径的第一端点之间的第四位置；

根据所述第四位置及所述第一待覆盖路径的第一端点得到第二待覆盖路径L_x，其中，所述第二待覆盖路径L_x以所述第一待覆盖路径的第一端点为第一端点，且以所述第四位置为第二端点。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述电子设备的移动方向为由起始端点至目的端点，所述起始端点为所述待覆盖路径的第一端点或者第二端点，所述目的端点为所述待覆盖路径中除所述起始端点外的另一端点，

所述根据所述第二待覆盖路径对所述待覆盖路径集合进行更新，得到更新后的待覆盖路径集合，包括：

从所述第二待覆盖路径中确定包括所述第一待覆盖路径的起始端点的目标待覆盖路径；

采用所述目标待覆盖路径替换所述待覆盖路径集合中的第一待覆盖路径；

确定是否存在新增待覆盖路径，其中，所述新增待覆盖路径为所述第二待覆盖路径中除所述目标待覆盖路径以外的第二待覆盖路径；

在存在所述新增待覆盖路径的情况下，在所述待覆盖路径集合中添加所述新增待覆盖路径；

得到更新后的待覆盖路径集合。