[发明专利]描画装置、数据处理装置、描画方法、以及描画数据生成方法在审
申请号: | 202110293334.2 | 申请日: | 2021-03-18 |
公开(公告)号: | CN113448177A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 鉈落信也;八坂智;增田胜太;中津智史 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;宋晓宝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 描画 装置 数据处理 方法 以及 数据 生成 | ||
数据处理装置生成表示以初始网格宽度对初始描画数据所表示的初始描画区域进行分割而得到的多个第一网格区域的各描画内容的第一分割数据,基于第一基板的对准标记的位置,根据重新配置后的各第一网格区域的位置,对各第一网格区域的描画内容进行合成,生成第一描画数据。数据处理装置生成表示以比初始网格宽度大的网格宽度对第一描画数据所表示的第一描画区域进行分割而得到的多个第二网格区域的各描画内容的第二分割数据,基于第二基板的对准标记的位置,根据重新配置后的各第二网格区域的位置,对各第二网格区域的描画内容进行合成,生成表示包含规定图案的第二描画区域的第二描画数据。
技术领域
本发明涉及基于描画数据在基板上形成图像的技术,特别是涉及根据基板的形状来修正描画数据的技术。
背景技术
已知一种利用激光等对印刷基板、半导体基板、液晶基板等基板的对象面进行扫描来描画电路图案的直描装置。基于直描装置的电路图案的描画按照从电路图案的设计数据转换后的描画数据来进行。描画数据是具有直描装置能够处理的记述形式的数据。
基板除了其自身原本具有翘曲、扭曲以外,有时起因前工序的处理而稍微变形。另一方面,设计数据通常不考虑基板的变形而制作。因此,在直接使用转换后的描画数据来描画电路图案的情况下,成品率有可能下降。因此,基于直描装置进行的描画有时预先测定基板的形状,并基于得到的测定结果,来修正描画数据。
例如在专利文献1中,基板的描画区域虚拟地被分割成多个网格区域,生成表示分割后的各网格区域的描画内容的分割描画数据。在描画时,基于设置于描画对象的基板的对准标记的位置,重新配置网格区域的位置。然后,通过合成与重新配置后的各网格区域对应的描画内容,生成修正后的描画数据。
专利文献1:日本特开2010-204421号公报
然而,在现有技术的情况下,通过基于每个基板的对准标记的位置来重新配置网格区域,从而生成描画数据。网格区域的大小是恒定的,而与基板的变形的程度无关,因此,在生成描画数据中每次都需要相同程度的计算处理。因此,在与基板的变形对应的描画数据的修正处理中需要大量的计算资源或计算时间。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种减少与基板的变形相对应的描画数据的修正处理所需要的计算资源或计算时间的技术。
为了解决上述问题,第一方式提供一种描画装置,在基板上描画规定图案。描画装置具有:载物台,用于载置具有多个对准标记的基板;拍摄部,对载置于所述载物台的所述基板的所述对准标记进行拍摄;数据处理部,生成描画数据;以及照射部,基于所述描画数据,向载置于所述载物台的所述基板照射光。所述数据处理部执行如下处理:数据获取处理,获取表示包含规定图案的初始描画区域的初始描画数据;第一分割处理,基于所述初始描画数据,生成表示以初始网格宽度对所述初始描画区域进行分割而得到的多个第一网格区域的各描画内容的第一分割数据;第一标记位置确定处理,基于所述拍摄部对第一基板进行拍摄而得到的拍摄图像,来确定所述第一基板的所述对准标记的位置;第一重新配置处理,基于所述第一基板的所述对准标记的位置,重新配置各所述第一网格区域;第一合成处理,根据通过所述第一重新配置处理而重新配置后的各所述第一网格区域的位置,对所述第一分割数据所表示的各所述第一网格区域的描画内容进行合成,生成表示包含规定图案的第一描画区域的第一描画数据。另外,数据处理部执行如下处理:第二分割处理,基于所述第一描画数据,生成表示以比所述初始网格宽度大的网格宽度对所述第一描画区域进行分割而得到的多个第二网格区域的各描画内容的第二分割数据;第二标记位置确定处理,基于所述拍摄部对第二基板进行拍摄而得到的拍摄图像,来确定所述第二基板的所述对准标记的位置;第二重新配置处理,基于所述第二基板的所述对准标记的位置,重新配置各所述第二网格区域;以及第二合成处理,根据通过所述第二重新配置处理而重新配置后的各所述第二网格区域的位置,对各所述第二网格区域的描画内容进行合成,生成表示包含规定图案的第二描画区域的第二描画数据。
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